[实用新型]气体前处理装置及回收氢气检测装置

权利要求书

1.一种气体前处理装置，其特征在于，包括壳体、第一端盖和第二端盖，所述壳体的内部设置有用于吸附氯化氢和氯硅烷的吸附介质，所述壳体的一端与所述第一端盖连接，所述壳体的另一端与所述第二端盖连接，所述第一端盖设置有进口，所述进口设置有进气阀，所述第二端盖设置有出口，所述出口用于与气相色谱仪的进样口连通，所述出口设置有出气阀；所述第一端盖设置有置换气进气管，所述置换气进气管设置有置换气进口阀，所述第二端盖设置有置换气出气管，所述置换气出气管设置有置换气出口阀。

2.根据权利要求1所述的气体前处理装置，其特征在于，还包括抽气泵，所述抽气泵的进气端与所述出口连通。

3.根据权利要求1所述的气体前处理装置，其特征在于，还包括气体进口管和气体出口管，所述气体进口管与所述进口连通，所述气体出口管与所述出口连通。

4.根据权利要求1所述的气体前处理装置，其特征在于，所述壳体为透明管状结构。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的气体前处理装置，其特征在于，所述壳体的一端与所述第一端盖螺纹连接，所述壳体的另一端与所述第二端盖螺纹连接。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的气体前处理装置，其特征在于，所述置换气进气管的材质和所述置换气出气管的材质均为四氟。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的气体前处理装置，其特征在于，所述第一端盖的材质和所述第二端盖的材质均为四氟。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的气体前处理装置，其特征在于，所述吸附介质包括第一吸附剂层、第二吸附剂层和第三吸附剂层，所述第一吸附剂层位于所述进口处，所述第三吸附剂层位于所述出口处，所述第二吸附剂层位于所述第一吸附剂层与所述第三吸附剂层之间。

9.根据权利要求8所述的气体前处理装置，其特征在于，所述第一吸附剂层为活性炭，所述第二吸附剂层为NaOH颗粒，所述第三吸附剂层为硅胶。

10.一种回收氢气检测装置，其特征在于，包括气相色谱仪和如权利要求1至9中任一项所述的气体前处理装置，所述气相色谱仪的进样口与所述出口连通。