[实用新型]真空电子束连续镀膜装置有效
申请号: | 201822038643.1 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN209144247U | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 邹宇;赖奇;廖先杰;刘翘楚;肖传海;彭富昌;钟璨宇;李俊瀚;江思媛;范立男 | 申请(专利权)人: | 攀枝花学院;成都天宇坤实机电设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/56 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 许泽伟 |
地址: | 617000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子束炉 金属带卷 开卷机 收卷机 本实用新型 镀膜 连续镀膜装置 真空电子束 工作腔 流水线生产 生产成本低 连续镀膜 出口端 电子枪 进口端 开卷 收卷 送入 配合 | ||
本实用新型公开了一种真空电子束连续镀膜装置,包括电子束炉、开卷机和收卷机,所述开卷机设置在电子束炉的进口端一侧,收卷机设置在电子束炉的出口端一侧;所述电子束炉由至少一个工作腔组成,每个工作腔内设有至少一把电子枪。本实用新型通过开卷机、收卷机与电子束炉进行配合,在电子束炉对金属带卷进行镀膜的同时,开卷机将金属带卷开卷后送入电子束炉,收卷机将镀膜完成的金属带卷收卷,实现对金属带卷的连续镀膜,极大增加了镀膜的效率,本实用新型结构简单、生产成本低,可广泛运用于流水线生产中。
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备技术领域,尤其是一种真空电子束连续镀膜装置。
背景技术
真空镀膜是把金属或者金属氧化物变成气态的分子或原子使其沉积在镀件表面形成镀层的一项技术。真空镀膜技术和电镀技术相比污染更小,能耗更低,所需的成本较低,装饰效果以及金属感都比较强,是一项很有发展前景的技术。真空镀膜具体包括很多种类:真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。
目前真空镀膜所采用的镀膜设备由于设备复杂,设备的造价较高、镀膜效率较低,无疑增加了镀膜工艺的生产成本与生产时间,且现有的镀膜设备无法直接应用于流水线生产中,不能实现连续镀膜的生产工艺。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种真空电子束连续镀膜装置,其结构简单、操作方便,可实现高效率的连续镀膜,能广泛运用于流水线生产中。
为解决上述技术问题本实用新型所采用的技术方案是:真空电子束连续镀膜装置,包括电子束炉、开卷机和收卷机,所述开卷机设置在电子束炉的进口端一侧,收卷机设置在电子束炉的出口端一侧;所述电子束炉由至少一个工作腔组成,每个工作腔内设有至少一把电子枪。
优选的,所述电子束炉由1~3个连通的工作腔组成,每个工作腔内设有1~2把电子枪。
进一步的是:还包括连通在电子束炉进口端的前置真空室和连通在电子束炉出口端的后置真空室,所述前置真空室由至少两个连通的前置真空腔组成,所述后置真空室由至少两个连通的后置真空腔组成,所述前置真空腔与后置真空腔内都设有平板真空装置。
优选的,所述前置真空室由2~8个连通的前置真空腔组成,所述后置真空室由2~8个连通的后置真空腔组成。
进一步的是:还包括加热真空室与冷却真空室,所述加热真空室连通在电子束炉与前置真空室之间,所述冷却真空室连通在电子束炉与后置真空室之间;所述加热真空室由至少一个加热真空腔组成,所述冷却真空室由至少两个冷却真空腔组成;所述加热真空腔内设有平板真空加热装置,所述冷却真空腔内设有平板真空冷却装置。
优选的,所述加热真空室由1~4个连通的加热真空腔组成,所述冷却真空室由2~4个连通的冷却真空腔组成。
进一步的是:还包括设置在前置真空室与开卷机之间的前置矫直机与设置在后置真空室与收卷机之间的后置矫直机。
本实用新型的有益效果是:本实用新型通过开卷机、收卷机与电子束炉进行配合,在电子束炉对金属带卷进行镀膜的同时,开卷机将金属带卷开卷后送入电子束炉,收卷机将镀膜完成的金属带卷收卷,实现对金属带卷的连续镀膜,极大增加了镀膜的效率,本实用新型结构简单、生产成本低,可广泛运用于流水线生产中。
附图说明
图1为本实用新型的示意图。
图中标记为:1-电子束炉、11-工作腔、12-电子枪、2-开卷机、3-收卷机、4-前置真空室、41-前置真空腔、5-后置真空室、51-后置真空腔、6-加热真空室、61-加热真空腔、7-冷却真空室、71-冷却真空腔、8-前置矫直机、9-后置矫直机、10-金属带卷。
具体实施方式
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