[实用新型]一种便于检测派瑞林镀膜工艺的检测加工装置有效
申请号: | 201822024577.2 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN209481789U | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 张卫兴;张振兴 | 申请(专利权)人: | 江苏可润光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;G01N21/64 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 210000 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加热环 加热传感器 检测 本实用新型 真空沉积室 镀膜工艺 加工装置 加热片 连接环 密封环 派瑞林 升华室 升华 料仓 化学气相沉积 紫外线灯照射 冷却控制器 温度传感器 荧光增白剂 加工产品 均匀沉积 上连接环 真空系统 加工件 裂解室 蒸发室 粉料 下端 直观 观察 | ||
本实用新型公开了一种便于检测的派瑞林镀膜工艺的检测加工装置,属于化学气相沉积技术领域,包括:蒸发室、裂解室、真空沉积室、真空系统、冷却控制器以及管道,真空沉积室上部设置有升华杯,升华杯设置有料仓杯、加热环和升华室,加热环上设有温度传感器,料仓杯的下端设有密封环,密封环的一侧设有加热片,加热片的底部设有下加热传感器,升华室上连接有连接环,连接环上连接有两个前加热环,两个前加热环上分别设有上加热传感器和中加热传感器,在其中一个前加热环的一端设有上连接环。本实用新型通过将荧光增白剂粉料升华均匀沉积在加工件上,通过用紫外线灯照射来检测,可以对加工产品的效果有了直观的观察。
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜工艺的检测加工装置,特别是涉及一种便于检测派瑞林镀膜工艺的检测加工装置,属于化学气相沉积技术领域。
背景技术
化学气相沉积法是传统的制备薄膜的技术,广泛应用于半导体工业中多种材料的沉积,包括大范围的绝缘材料、大多数金属材料和金属合金材料,其原理是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间化学反应,使得气态前驱体中的某些成分分解或者相互之间反应,而在基体上沉积形成薄膜。
现有的派瑞林镀膜工艺为派瑞林材料在蒸发室加热气化后,在真空压差的作用下经过裂解室向镀膜室运动,并在裂解室内发生裂解反应,裂解后气体经过管道进入镀膜室后发生聚合反应形成防水、防腐膜层,但现有技术加工的镀膜材料无法用肉眼确认镀膜的包盖类型,为了保证客户在第一时间内对镀膜加工后的产品可靠性、直观的检测加工后的效果,而实用新型此项工艺技术。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是为了提供一种便于检测派瑞林镀膜工艺的检测加工装置,能够解决现有技术加工的镀膜材料不易检测的问题,通过在真空沉积室上设有升华杯,将荧光增白剂粉料升华均匀沉积在加工件上,用紫外线灯可以清楚而直观的进行检测。
本实实用新型的目的可以通过采用如下技术方案达到:
一种便于检测派瑞林镀膜工艺的检测加工装置,包括:蒸发室、裂解室、真空沉积室、真空系统、冷却控制器以及管道,所述蒸发室、裂解室、真空沉积室及真空系统依次通过管道连通,所述真空沉积室上部设置有升华杯,所述升华杯设置有料仓杯、加热环和升华室,所述加热环设置在所述升华室上,所述升华室设置在所述料仓杯上,所述加热环上设有温度传感器,所述料仓杯的下端设有密封环,所述密封环的一侧设有加热片,所述加热片的底部设有下加热传感器,所述升华室上连接有连接环,所述连接环上连接有两个前加热环,两个所述前加热环上分别设有上加热传感器和中加热传感器,在其中一个所述前加热环的一端设有上连接环,所述料仓杯中可加入荧光增白剂粉料,通过将荧光增白剂粉料升华均匀沉积在加工件上,用紫外线灯照射后检测。
优选的,所述料仓杯为存储原料的容器;所述加热片用于保证原料蒸发后不会下降冷却,所述上连接环为连接所述真空沉积室的接口。
优选的,所述加热环为粉体加热装置,用于能使粉体蒸发,两个所述前加热环用于确保原料在蒸发过程中不在管道内凝固。
优选的,所述升华杯通过所述连接环和真空沉积室连接。
优选的,所述升华杯为不锈钢升华杯,所述升华杯可加热到310-500℃之间。
优选的,所述密封环可以将远离所述真空沉积室一端的所述升华杯密封。
优选的,所述加热环可固定在所述升华杯上起到加热的作用。
本实用新型的有益技术效果:按照实用新型提供的一种便于检测派瑞林镀膜工艺的检测加工装置,解决了现有技术加工的镀膜材料不易检测的问题,通过在真空沉积室上设有升华杯,将荧光增白剂粉料升华均匀沉积在加工件上,用紫外线灯可以清楚而直观的进行检测,该工艺简单、实用、成本底,实用性强,可取代进口原材料。
附图说明
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的