[实用新型]炉管晶圆调节装置及炉管

说明书

本实用新型涉及一种炉管晶圆调节装置，设置于一炉管机台内，用于调节晶舟上晶圆的位置，包括：第一位移组件，包括气动单元和与所述气动单元活动连接的第二位移组件，所述第二位移组件在所述气动单元的作用下到达预定位置；以及所述第二位移组件包括传动单元以及与所述传动单元连接的微调连杆，在所述传动单元的作用下微调连杆靠近晶舟并调节晶圆的位置。所述第一位移组件中的气动单元用于使所述第二位移组件靠近晶圆；所述第二位移组件中的传动单元用于使微调连杆接触晶圆并调节晶圆的位置，从而移回偏移的晶圆，保证晶圆的位置准确，且避免了手动调整导致晶圆遭受颗粒或报废的影响。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备领域，尤其涉及一种炉管晶圆调节装置及一种包括所述炉管晶圆调节装置的炉管。

背景技术

炉管是半导体制程中的基本设备，主要用于晶圆的氧化、掺杂及热处理等程序。使用过程中，晶圆放置在炉管内部的晶舟上，对炉管进行加热、并向炉管中通入工艺气体，以实现对晶圆的氧化、掺杂和热处理。

但是，如图1所示，在对晶圆进行氧化、掺杂和热处理等工艺时，晶圆在炉管晶舟上受气流震动及旋转运动等因素的影响，可能出现个别晶圆位置偏移的不佳情况，在完成反应后下货取片前进行的晶圆扫描动作时会发生报警。对于晶圆偏移类报警，现有技术中通常采用打开炉管机台的后门手动对突出晶圆的位置进行细微调整的方法，以使偏移的晶圆位置回归正常，从而继续后面的取片动作。但现有技术中打开后门会导致机台内部传送环境变差，使得产品遭受颗粒影响，同时针对一些对氧气浓度要求高的产品，可能会导致产品报废。因此本实用新型提供了一种新的炉管晶圆调节装置及炉管，能够避免打开后门，从而解决产品遭受颗粒或报废的影响。

实用新型内容

本实用新型提供一种炉管晶圆调节装置，目的在于调节晶圆的位置，从而保证晶圆的位置准确，避免手动调整导致晶圆遭受颗粒或报废的影响。本实用新型另外提供了一种包括所述炉管晶圆调节装置的炉管。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种炉管晶圆调节装置，设置于一炉管机台内，用于调节晶舟上晶圆的位置，包括：

第一位移组件，包括气动单元和与所述气动单元活动连接的第二位移组件，所述第二位移组件在所述气动单元的作用下到达预定位置；以及

所述第二位移组件包括传动单元以及与所述传动单元连接的微调连杆，在所述传动单元的作用下微调连杆靠近晶舟并调节晶圆的位置。

可选的，在所述炉管晶圆调节装置中，所述第二位移组件还包括设置于所述炉管内壁的第三旋转轴和与所述第三旋转轴连接的收缩框，所述第三旋转轴用于使所述收缩框在垂直于所述炉管管壁的平面内旋转；所述传动单元设置于所述收缩框内。

可选的，在所述炉管晶圆调节装置中，所述传动单元包括丝杆螺母和丝杆，所述丝杆螺母的一端固设于所述微调连杆中部，另一端套接于所述丝杆上，其中，所述丝杆螺母和所述丝杆垂直于所述微调连杆。

可选的，在所述炉管晶圆调节装置中，所述传动单元还包括伺服驱动器、伺服电机以及联轴器，所述伺服驱动器控制所述伺服电机，所述丝杆与所述伺服电机连接，所述伺服电机通过所述联轴器控制所述丝杠运动。

可选的，在所述炉管晶圆调节装置中，所述传动单元还包括与所述微调连杆连接的一条或多条滑轨以及与所述滑轨滑动连接且固设于所述收缩框内的滑块。

可选的，在所述炉管晶圆调节装置中，所述多条滑轨互相平行，且均垂直于所述微调连杆。

可选的，在所述炉管晶圆调节装置中，所述气动单元包括一气缸和与所述气缸配合的活塞，所述气缸包括第一端和与所述第一端相对的第二端，所述活塞包括与所述第二端活动连接的第三端和与所述第三端相对的第四端。