[实用新型]一种高表面光洁度特种膜的铸型装置

权利要求书

1.一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，包括混料箱（1）、导管（2）、挤压箱（3）、模头（4）、铸膜辊（5）、静电铸膜辊（6）、挡板（7）、传动轮（8）、输送带（9）、打磨辊（10）；所述混料箱（1）的底端通过所述导管（2）与所述挤压箱（3）侧面连通，所述挤压箱（3）底部与所述模头（4）顶端连通，所述模头（4）下方依次水平设置有所述铸膜辊（5）、所述静电铸膜辊（6）以及所述传动轮（8），所述模头（4）底端竖直正对着所述铸膜辊（5）与所述静电铸膜辊（6）的间隙，所述挡板（7）设置于所述静电铸膜辊（6）的右侧表面，所述挡板（7）与所述输送带（9）呈45°-90°角，所述传动轮（8）带动所述输送带（9）向右移动，所述打磨辊（10）设置于所述输送带（9）末端，与所述输送带（9）接触。

2.根据权利要求1所述的一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，所述铸膜辊（5）与所述静电铸膜辊（6）的间隙为200-500μm。

3.根据权利要求2所述的一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，所述铸膜辊（5）与所述静电铸膜辊（6）的间隙为280μm。

4.根据权利要求1所述的一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，所述挡板（7）与所述输送带（9）呈90°角。

5.根据权利要求1所述的一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，所述打磨辊（10）的表面光洁度为0.03-0.08μm。

6.根据权利要求1所述的一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，所述铸膜辊（5）与所述静电铸膜辊（6）均为中空式设计，内部通有循环水控制锟的温度。

7.根据权利要求6所述的一种高表面光洁度特种膜的铸型装置，其特征在于，所述铸膜辊（5）与所述静电铸膜辊（6）的温度均为30-45℃。