[实用新型]扩散炉

说明书

本实用新型提供一种扩散炉，包括炉体、进气装置及出气装置，所述炉体的一端设有炉口，所述炉体的另一端设有炉尾，所述进气装置和所述出气装置均与所述炉体连接，所述进气装置包括向所述炉体内输送气体的第一进气管道，所述出气装置包括向所述炉体外排放气体的排气管道，所述第一进气管道包括位于所述炉体内的第一进气管，所述第一进气管设有若干喷孔，所述喷孔朝向不同方向开口。本实用新型通过在进气管上设有朝向不同方向的喷孔，使喷孔可以在炉体内多个方向输送气体，改善炉体内气体分散不均匀问题，提升硅片质量。

技术领域

本实用新型涉及一种扩散炉，尤其涉及一种用于太阳能电池片制造的扩散炉。

背景技术

扩散技术是制备太阳能电池片的关键工序，它是将一定量的某种杂质掺杂到晶体硅中，扩散的微观过程是物质的一种输运过程，是通过半导体晶格格点的无规则运动产生，这种运动总是由粒子浓度较高的地方向着浓度较低的地方进行，从而使粒子的分布趋于均匀。

其中，硼扩散技术是制作N型太阳能电池片的关键技术，通过使用三溴化硼(BBr3)液体在N型硅片基体上形成PN结、前表面场(FSF)或者背表面场(BSF)。在硼扩散过程中，硼掺杂浓度的分布依赖于硅片表面形成的硼源(即硼硅玻璃)，硼源的均匀性是影响硼原子在硅片中分布和扩散方阻的均匀性。然而，扩散过程中形成的硼源的熔化温度较高，由于硼源呈液态，随着气流变化，硼源极易在硅片上形成均匀性较差的厚度；在高温状态下，硼源中的硼原子也极易不均匀地扩散进硅片内部。

目前，采用Tempress扩散炉进行常压硼扩散，常压硼扩散相较于低压硼扩散的均匀性更差，内部压力稍微变动就可极大地影响扩散方阻。此外，扩散源气体从炉尾的中间直接进入炉体内，气流主要靠尾气抽取作用以达到炉管内部源气体分散的均匀性，进一步影响扩散方阻，造成扩散方阻均匀性差的问题。

有鉴于此，确有必要对用于太阳能电池片制造的扩散炉进行改进，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种操作简便的用于太阳能电池片制造的扩散炉。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种扩散炉，包括炉体、进气装置及出气装置，所述炉体的一端设有炉口，所述炉体的另一端设有炉尾，所述进气装置和所述出气装置均与所述炉体连接，所述进气装置包括向所述炉体内输送气体的第一进气管道，所述出气装置包括向所述炉体外排放气体的排气管道，所述第一进气管道包括位于所述炉体内的第一进气管，所述第一进气管设有若干喷孔，所述喷孔朝向不同方向开口，所述喷孔之间的距离在炉尾到炉口的方向上逐渐增大。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述进气装置还包括第二进气管道，所述第二进气管道包括位于所述炉体内的第二进气管，所述第二进气管上设有若干喷孔。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述第一进气管位于所述炉体内上方，所述第二进气管位于所述炉体内下方，所述排气管道位于所述炉体内下方。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述扩散炉还包括位于炉体内上的环状挂钮，用于悬挂所述第一进气管。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述第一进气管上的若干喷孔在炉体内朝左、右、下三个方向开口，所述第二进气管上的若干喷孔在炉体内朝上方开口。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述第一进气管道及所述第二进气管道还包括位于所述炉体外的衔接管，所述衔接管分别与所述第一进气管和所述第二进气管连通并安插于炉尾处设置的通孔内，所述衔接管与相应的进气管在通孔处可拆卸连接。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述进气装置还包括第三进气管道，所述第三进气管道设置在所述炉体中间部位，所述第三进气管道在所述炉尾处输送气体。