[实用新型]一种带有集成风冷系统的扩散炉

说明书

一种带有集成风冷系统的扩散炉，包括箱体，箱体内部设有加热炉，加热炉置于箱体一端。加热炉连接风冷腔。箱体内设有导轨，导轨一端置于加热炉内，导轨另一端置于风冷腔内。导轨上设有滑动块，滑动块上设有接舟装置。风冷腔内设有风机和气冷管，风机连接驱动机构，气冷管连接气源，驱动机构和气源置于箱体内。本实用新型的有益效果是：结构简单、操作方便，通过在扩散炉体内设置风冷区，使其与扩散炉合理的结合为一个整体，集成度高，占地面积小，缩短了风冷区与加热炉的距离。通过导轨联通加热炉与风冷系统，接舟装置通过导轨移动，缩短了出炉样片移动到风冷区的距离，加快了样片温度的降低速度。

技术领域

本实用新型属于机械结构技术领域，尤其是涉及一种带有集成风冷系统的扩散炉。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

现有的扩散炉大体分为垂直扩散炉和水平扩散炉两种类型。垂直扩散炉是石英舟垂直于水平面，有利于机械手传送硅片。水平扩散炉是石英舟平行于水平面，可设置多个工艺炉管，平均炉管的占地面积小，片间的工艺参数好。

现有的扩散炉大多为独立的炉体结构，样片经退火处理或热氧化处理出炉后，需操作人员手动将载有已处理样片的石英舟拉出。拉出后，需要将样片运到风冷区进行降温处理。操作人员手动移动样片速度慢，影响样片降温速率，导致测试样片数据偏差大。且操作人员手动操作容易造成烫伤，快速移动石英舟过程中，容易拿不稳，石英舟脱落导致摔裂，造成划伤事件。为了加快样片温度的降低速度，需要单独设置风冷区，单独设置的风冷区距离炉管口较远，操作距离长，影响样片退火快速降温工艺要求，且单独设置的风冷区，设备结构复杂，占地面积大，生产成本高，应用范围小，不适合推广应用。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题是提供一种扩散炉；尤其是结构简单，样片周转速度快，具有风冷单元，集成度高且生产成本低的一种带有集成风冷系统的扩散炉。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种带有集成风冷系统的扩散炉，包括箱体，所述箱体为长方体，所述箱体内部设有加热炉，所述加热炉置于所述箱体一端，所述加热炉连接风冷系统，所述风冷系统包括风冷腔，所述风冷腔与所述加热炉联通，所述箱体内设有导轨，所述导轨一端置于所述加热炉内，所述导轨另一端置于所述风冷腔内，所述导轨上设有滑动块，所述滑动块上设有接舟装置，所述接舟装置与所述导轨配合滑动，所述风冷腔内设有风机和气冷管，所述风机为多个，所述风机依次置于所述风冷腔内，所述风机连接驱动机构，所述气冷管置于所述风冷腔内，所述气冷管为多个，所述气冷管与所述导轨平行分布，所述气冷管上设有透孔，所述气冷管连接气源，所述驱动机构和所述气源置于所述箱体内。

进一步的，所述加热炉水平置于所述箱体内，所述加热炉为多个，所述加热炉由上到下依次平行分布。

进一步的，所述风冷腔为多个，所述风冷腔水平置于所述箱体内，所述风冷腔由上到下依次平行分布。

进一步的，所述加热炉内部设有加热管，所述加热管外表面设有加热丝，所述加热丝外表面设有保温棉，所述保温棉外表面设有金属防护壳。

进一步的，所述加热丝呈螺旋状缠绕在所述加热管外表面。

进一步的，所述接舟装置呈长方形盒状，所述接舟装置底部设有接舟支架，所述接舟支架底面连接滑动块上表面，所述接舟装置侧面设有推手。

进一步的，所述接舟装置包括托舟底板和托舟侧板，所述托舟底板为长方形板，所述托舟侧板包括长度侧板和宽度侧板，所述长度侧板置于所述托舟底板长度方向的两侧，所述托舟底板与所述长度侧板程钝角设置，所述宽度侧板置于所述托舟底板宽度方向的两侧，所述宽度侧板为梯形板。