[实用新型]一种光电元器件加工用离子注入装置有效

专利信息
申请号: 201821860523.3 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN209045483U 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 蔡天平 申请(专利权)人: 漳浦比速光电科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/687
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350600 福建省漳*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 光电元器件 支撑腿 转角缸 底板 离子注入装置 本实用新型 电动滑块 保护垫 保护箱 联轴器 工作台 电机 离子喷头 箱体内部 固定的 转轴 加工 离子 保证 安全
【说明书】:

实用新型公开了一种光电元器件加工用离子注入装置,包括箱体、支撑腿、底板、保护箱,所述箱体下方设置有所述支撑腿,所述支撑腿下方设置有所述底板,所述支撑腿之间设置有所述保护箱,所述保护箱内部设置有电机,所述电机上方设置有联轴器,所述联轴器上方设置有转轴,所述箱体内部设置有工作台,所述工作台上方设置有高压转角缸,所述高压转角缸之间设置有保护垫。有益效果在于:本实用新型通过设置高压转角缸和保护垫,对光电元器件进行固定的同时也保证了光电元器件的安全,避免了对光电元器件造成损坏,通过设置第一电动滑块和第二电动滑块,可以将离子喷头调节至不同的位置,保证了离子注入工作的顺利完成。

技术领域

本实用新型涉及光电元器件加工领域,特别是涉及一种光电元器件加工用离子注入装置。

背景技术

离子束射到固体材料以后,受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来,并最终停留在固体材料中,这一现象就叫做离子注入。

其基本原理是:用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去,离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用,入射离子逐渐损失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、结构和性能发生变化,从而优化材料表面性能,或获得某些新的优异性能。此项高新技术由于其独特而突出的优点,已经在半导体材料掺杂,金属、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上获得了极为广泛的应用,取得了巨大的经济效益和社会效益。

光电元器件生产过程中需要注入离子,但是现在的光电元器件加工用离子注入装置对光电元器件进行固定时,无法对光电元器件的安全进行保证,可能会对光电元器件造成损坏,因此需要在此基础上做进一步的改进。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种光电元器件加工用离子注入装置,本实用新型通过设置高压转角缸和保护垫,对光电元器件进行固定的同时也保证了光电元器件的安全,避免了对光电元器件造成损坏,通过设置第一电动滑块和第二电动滑块,可以将离子喷头调节至不同的位置,保证了离子注入工作的顺利完成。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:

一种光电元器件加工用离子注入装置,包括箱体、支撑腿、底板、保护箱,所述箱体下方设置有所述支撑腿,所述支撑腿下方设置有所述底板,所述支撑腿之间设置有所述保护箱,所述保护箱内部设置有电机,所述电机上方设置有联轴器,所述联轴器上方设置有转轴,所述箱体内部设置有工作台,所述工作台上方设置有高压转角缸,所述高压转角缸之间设置有保护垫,所述箱体内侧设置有气压传感器,所述气压传感器型号为OMC-506,所述箱体上设置有滑槽,所述滑槽内部设置有第一电动滑块,所述第一电动滑块上设置有固定座,所述固定座之间设置有横梁,所述横梁上设置有滑轨,所述横梁外侧设置有第二电动滑块,所述第二电动滑块下方设置有离子喷头,所述箱体上方设置有真空泵,所述箱体前部设置有密封门,所述密封门前部设置有控制箱,所述控制箱内部设置有控制器,所述控制器型号为MAM-200,所述控制器与所述控制箱通过螺钉连接,所述控制箱上设置有显示屏,所述显示屏下方设置有控制按钮,所述控制箱侧面设置有拉手,所述控制按钮、所述气压传感器、所述第一电动滑块、所述第二电动滑块、所述离子喷头、所述真空泵、所述高压转角缸、所述电机和所述显示屏与所述控制器电连接。

如此设置,通过设置所述高压转角缸和所述保护垫,对光电元器件进行固定的同时也保证了光电元器件的安全,避免了对光电元器件造成损坏,通过设置所述第一电动滑块和所述第二电动滑块,可以将所述离子喷头调节至不同的位置,保证了离子注入工作的顺利完成。

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