[实用新型]工艺腔室和半导体处理设备

权利要求书

1.一种工艺腔室，其特征在于，包括腔室本体、工艺载台、驱动所述工艺载台进入所述腔室本体内的驱动机构以及检测所述工艺载台是否到位的第一到位传感器；所述工艺腔室还包括测距仪，所述测距仪位于所述工艺载台前进方向的一侧，所述测距仪能够在预定条件下测量所述工艺载台与所述测距仪之间的距离，以确定所述工艺载台的工艺位置是否正确；其中，

所述预定条件包括所述第一到位传感器发出到位信号且所述驱动机构的脉冲计数满足预设脉冲计数。

2.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述测距仪为激光测距仪。

3.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述测距仪设置在所述腔室本体的内侧壁上；或者，所述测距仪设置在所述腔室本体的外侧壁上，并且，所述腔室本体在对应所述测距仪的位置处透明。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的工艺腔室，其特征在于，所述第一到位传感器为对射光电传感器，所述对射光电传感器的发射端和接收端分别设置在所述工艺载台垂直于其前进方向的两侧。

5.根据权利要求4所述的工艺腔室，其特征在于，所述对射光电传感器的发射端和接收端均设置在所述腔室本体的内侧壁上；或，

所述对射光电传感器的发射端和接收端均设置在所述腔室本体的外侧壁上，且所述腔室本体对应所述发射端和接收端的位置透明。

6.根据权利要求1至3中任意一项所述的工艺腔室，其特征在于，所述驱动机构包括若干个滚轮以及驱动所述若干个滚轮转动的伺服电机，所述若干个滚轮用于承载所述工艺载台，所述脉冲计数为所述伺服电机的脉冲计数。

7.根据权利要求1至3中任意一项所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室还包括计数模块、控制模块和报警模块；其中，

所述计数模块的输入端与所述第一到位传感器的输出端电连接；

所述控制模块的输入端分别与所述计数模块的输出端以及所述测距仪的输出端电连接；

所述报警模块的输入端与所述控制模块的输出端电连接。

8.根据权利要求7所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室还包括门阀，所述门阀设置在所述腔室本体上，所述门阀的控制端与所述控制模块的输出端电连接。

9.根据权利要求8所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室还包括第二到位传感器和第三到位传感器，所述第二到位传感器与所述门阀对应设置，所述第三到位传感器夹设在所述第二到位传感器和所述第一到位传感器之间；其中，

所述第二到位传感器和所述第三到位传感器的输出端均与所述计数模块的输入端电连接。

10.一种半导体处理设备，其特征在于，包括权利要求1至9中任意一项所述的工艺腔室。