[实用新型]真空镀膜装置

说明书

本实用新型提供了一种真空镀膜装置，涉及镀膜设备技术领域，该真空镀膜装置包括镀膜室、蒸发装置以及冷却装置；镀膜室包括内室和外室，且外室包裹在内室的外侧；内室上开设有多个出气口，蒸发装置设置在外室与内室的间隙处，蒸发装置产生的蒸镀材料能够通过出气口覆盖在被镀膜基片上；冷却装置包括导热管和导热壁，导热管设置在内室的腔壁上，且导热管具有出水口和进水口，出水口和进水口分别伸出镀膜室，导热壁位于导热管的两侧，分别与内室的腔壁连接，以缓解现有技术中进行真空镀膜时对于真空镀膜装置内部产生的热量冷却效果不够显著等技术问题。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺；简单地说，真空镀膜即是在真空中把金属合金或者化合物进行蒸发和溅射，使其在被涂覆的物体(也称之为基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。真空镀膜技术一般能够分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，其中，物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法；化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。但无论哪一种镀膜方法都需要专用的镀膜装置。

在现有技术中常用的真空镀膜装置在实际工作时会产生大量的热量，需要及时有效的进行冷却，进而确保真空镀膜装置能够正常工作；但是常见的冷却装置虽然能够将真空镀膜装置内的部分热量带走，但是冷却效率仍然不够完善，还是会有部分热量存留，随着热量的积累对真空镀膜装置也会产生一定的影响。

鉴于此，迫切需要一种真空镀膜装置,能够解决上述问题。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种真空镀膜装置，以缓解现有技术中进行真空镀膜时对于真空镀膜装置内部产生的热量冷却效果不够显著等技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供的一种真空镀膜装置，包括镀膜室、蒸发装置以及冷却装置；

所述镀膜室包括内室和外室，且所述外室包裹在所述内室的外侧；所述内室上开设有多个出气口，所述蒸发装置设置在所述外室与所述内室的间隙处，所述蒸发装置产生的蒸镀材料能够通过所述出气口覆盖在被镀膜基片上；

所述冷却装置包括导热管和导热壁，所述导热管设置在所述内室的腔壁上，且所述导热管具有出水口和进水口，所述出水口和所述进水口分别伸出所述镀膜室，所述导热壁位于所述导热管的两侧，分别与所述内室的腔壁连接。

在上述任一技术方案中，进一步地，所述冷却装置还包括与所述导热管连接的储液室；

所述储液室位于所述镀膜室的外侧，所述导热管的进水口和出水口分别与所述储液室连通。

在上述任一技术方案中，进一步地，所述冷却装置还包括冷凝室；

所述冷凝室与所述导热管的出水口连通，经所述出水口流出的液体流向所述冷凝室冷凝后，再次流向所述储液室。

在上述任一技术方案中，进一步地，所述真空镀膜装置还包括载片装置；

所述载片装置设置在所述内室中，所述载片装置用于承载需要被镀膜基片。