[实用新型]地磁传感器件有效
申请号: | 201821771128.8 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN209065410U | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 孙伟;刘琛;高周妙;罗燕飞;闻永祥 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰集成电路有限公司;杭州士兰微电子股份有限公司 |
主分类号: | B81B7/00 | 分类号: | B81B7/00;B81C1/00;G01R33/00;G01R33/09 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯 |
地址: | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传感器 第二导电层 第一导电层 结构层 处理传感器 磁传感器件 驱动传感器 检测信号 金属连线 传感器连接 地磁传感器 短路电极 外部电路 电连接 磁阻 申请 | ||
本申请公开了一种地磁传感器件,该地磁传感器件包括:CMOS电路;以及传感器,位于在CMOS电路上,CMOS电路与传感器连接,用于驱动传感器和处理传感器产生的检测信号,其中,传感器包括:结构层;依次在结构层上形成的磁阻条、短路电极以及金属连线;以及第一导电层与第二导电层,位于结构层上方,第一导电层分别与CMOS电路以及金属连线相连,第二导电层分别与CMOS电路以及外部电路相连。通过在CMOS电路上形成传感器,并通过第一导电层与第二导电层实现CMOS电路与传感器的电连接,实现了CMOS电路驱动传感器和处理传感器产生的检测信号的功能,达到了CMOS电路与传感器将集成的目的。
技术领域
本公开涉及半导体技术领域,更具体地,涉及一种地磁传感器件。
背景技术
微机械系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)与集成电路(integratedcircuit,IC)目前是半导体产业最重要的两个发展领域。在全球科技迅速发展的推动下,MEMS与IC的集成成为一种必然趋势。其集成方法有三种:单片集成、半混合(键合)集成和混合集成。单片集成是指MEMS结构与CMOS制造在一个芯片上。混合集成是将MEMS和IC分别制造在不同的管芯上,然后封装在一个管壳中,将带凸点的MEMS裸片以倒装焊接形式或者引线键合方式与IC芯片相互连接,形成SIP。半混合是利用三维集成技术实现MEMS芯片和CMOS的立体集成。单片集成是MEMS与IC是集成技术的重要发展方向,尤其对于射频RF薄膜体声波滤波器而言有很多优点。首先,处理电路靠近微结构,对信号的检测、收发能够实现更高的精度;其次,集成系统体积减小,功耗低;再次,器件数量减少、封装管脚数降低,可靠性提高。
在现有的三轴地磁传感器制造技术中,大多采用系统级封装(system in apackage,SIP)将地磁传感器、ASIC合封在一起。SIP指在一个封装体内集成多个功能芯片,芯片之间通过衬底的引线键合进行连接。SIP的模块间互联很长、集成密度较低,对信号的传输不利,制造工艺繁琐且不利于集成。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的目的是提供一种地磁传感器件,在CMOS电路上形成传感器,并通过第一导电层与第二导电层实现CMOS电路与传感器的电连接,实现了CMOS电路驱动传感器和处理传感器产生的检测信号的功能。
本实用新型提供了一种地磁传感器件,包括:CMOS电路;以及传感器,位于在所述CMOS电路上,所述CMOS电路与所述传感器连接,用于驱动所述传感器和处理所述传感器产生的检测信号,其中,所述传感器包括:结构层;依次在所述结构层上形成的磁阻条、短路电极以及金属连线;以及第一导电层与第二导电层,位于所述结构层上方,所述第一导电层分别与所述CMOS电路以及所述金属连线相连,所述第二导电层分别与所述CMOS电路以及外部电路相连。
优选地,所述结构层中具有凹槽,所述凹槽具有倾斜的侧壁。
优选地,所述结构层包括:在所述CMOS电路上依次沉积的多层二氧化硅。
优选地,所述结构层的密度沿纵向方向呈梯度分布,所述结构层的厚度大于等于预设值。
优选地,所述倾斜侧壁的倾斜角度包括30°至60°。
优选地,所述磁阻条包括:X轴磁阻条,位于所述结构层的平面区域;Y轴磁阻条,位于所述结构层的平面区域;以及Z轴磁阻条,位于所述侧壁。
优选地,所述短路电极与所述金属连线位于所述磁阻条上方。
优选地,所述短路电极与所述磁阻条呈预设夹角,所述预设夹角包括45°。
优选地,所述传感器还包括介质层,所述介质层覆盖所述结构层、所述磁阻条、所述短路电极以及所述金属连线。
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