[实用新型]一种粉红显示盖板及显示装置

说明书

本申请公开了一种粉红显示盖板及显示装置，包括：依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃；其中，所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。由于镀膜层具有交叠设置的二氧化硅层和五氧化二铌层共八层膜层，当光线通过玻璃和具有这八层膜层的镀膜层时，可以实现息屏呈现粉红色的视觉效果，与传统息屏黑色的效果区分明显，具有较高的辨识度，同时点亮屏幕无色，具有成本低、加工简单、良品率高、可大批量生产的优点。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种粉红显示盖板及显示装置。

背景技术

随着电子设备的外观多样化，颜色、样式的风格迥异设计已成为未来显示终端的一大趋势。

但是，在手机或智能家居的应用上，在息屏状态下显示装置的显示区域均为黑色，在炫彩的机壳和环境下，搭配黑色的屏幕总是显得突兀，不美观。目前，在现有技术中，还未出现显示装置的显示盖板在息屏状态下显示粉红色的视觉效果，且在点亮屏幕时无色，不影响显示内容。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种粉红显示盖板及显示装置，可以实现息屏呈现粉红色的视觉效果，同时点亮屏幕无色。其具体方案如下：

一种粉红显示盖板，包括：依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃；其中，

所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第一二氧化硅层与所述玻璃直接接触。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第一二氧化硅层的厚度范围为80nm至120nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第一五氧化二铌层的厚度范围为10nm至30nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第二二氧化硅层的厚度范围为10nm至30nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第二五氧化二铌层的厚度范围为50nm至80nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第三二氧化硅层的厚度范围为100nm至200nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第三五氧化二铌层的厚度范围为20nm至50nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第四二氧化硅层的厚度范围为40nm至70nm。

优选地，在本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板中，所述第四五氧化二铌层的厚度范围为5nm至20nm。

本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括本实用新型实施例提供的上述粉红显示盖板。

从上述技术方案可以看出，本实用新型所提供的一种粉红显示盖板及显示装置，包括：依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃；其中，所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。由于镀膜层具有交叠设置的二氧化硅层和五氧化二铌层共八层膜层，当光线通过玻璃和具有这八层膜层的镀膜层时，可以实现息屏呈现粉红色的视觉效果，与传统息屏黑色的效果区分明显，具有较高的辨识度，同时点亮屏幕无色，具有成本低、加工简单、良品率高、可大批量生产的优点。

附图说明