[实用新型]一种粉红显示盖板及显示装置有效
| 申请号： | 201821768507.1 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN208888405U | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 裴立志;周伟杰 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B5/26 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化硅层 五氧化二铌 镀膜层 显示装置 盖板 膜层 玻璃 光线通过 交叠设置 视觉效果 显示模块 辨识度 层堆叠 粉红色 良品率 无色 点亮 屏幕 加工 申请 生产 | ||
1.一种粉红显示盖板，其特征在于，包括：依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃；其中，
所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。
2.根据权利要求1所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第一二氧化硅层与所述玻璃直接接触。
3.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度范围为80nm至120nm。
4.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第一五氧化二铌层的厚度范围为10nm至30nm。
5.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第二二氧化硅层的厚度范围为10nm至30nm。
6.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第二五氧化二铌层的厚度范围为50nm至80nm。
7.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第三二氧化硅层的厚度范围为100nm至200nm。
8.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第三五氧化二铌层的厚度范围为20nm至50nm。
9.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第四二氧化硅层的厚度范围为40nm至70nm。
10.根据权利要求2所述的粉红显示盖板，其特征在于，所述第四五氧化二铌层的厚度范围为5nm至20nm。
11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至10任一项所述的粉红显示盖板。
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