[实用新型]一种UV纳米光刻机设备

说明书

本实用新型公开了一种UV纳米光刻机设备，包括光源、聚光透镜组、遮光镜、聚光透镜、第一折射镜、凹面反射镜及工作平台，所述聚光透镜组前还设有滤光镜和滤波器，所述聚光透镜组为多组鹰眼聚光镜，所述滤光镜、滤波器、鹰眼聚光镜、遮光镜、聚光透镜位于同一轴线上，且与所述第一折射镜对应，所述第一折射镜与一侧上方的凹面反射镜对应，所述凹面反射镜与其下方的工作平台对应。本实用新型通过加设滤光镜和滤波器，对光线进行处理，是是光刻时，只进行一种颜色且按特定方向进行光刻，其光刻效果更好。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术中的微细加工领域，特别涉及一种UV纳米光刻机设备。

背景技术

光刻机是用于在晶片、印刷电路板、掩膜版、光学玻璃等衬底材料上印刷构图的设备。光刻的意思是用光来制作一个图形，在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上，再将器件或电路结构临时“复制”到硅片上。在现有技术中，光刻机对于光的只是单单的通过汇聚来进行光刻，对其光源没有进行处理，其光源存在多方向和多颜色，对光刻的精度有一定的影响。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种精度高，能够更好的删选出特定需要光源的UV纳米光刻机设备。

本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为：一种UV纳米光刻机设备，包括光源、聚光透镜组、遮光镜、聚光透镜、第一折射镜、凹面反射镜及工作平台，所述聚光透镜组前还设有滤光镜和滤波器，所述聚光透镜组为多组鹰眼聚光镜，所述滤光镜、滤波器、鹰眼聚光镜、遮光镜、聚光透镜位于同一轴线上，且与所述第一折射镜对应，所述第一折射镜与一侧上方的凹面反射镜对应，所述凹面反射镜与其下方的工作平台对应。

优选的，所述光源为由激光发射器发出的光源，所述激光发射器前设有一能量控制器，所述能量控制器前设有一快门。这样，产生的光源能量更佳的集中，同时还能通过能量控制器控制其光源能量的大小。

优选的，所述光源通过激光发射器发出，经所述能量控制器和所述快门，再通过一第二折射镜照射进所述滤光镜。这样，通过第二折射镜来改变光源的传播路线，可以减小整个装置的横向空间。

优选的，所述聚光透镜为凹透镜或凸透镜。

优选的，所述凹透镜到所述第一折射镜的距离为所述凹透镜焦点的3倍。

优选的，所述凹面反射镜的凹面处通过光学镀膜设有多层掩膜板。

优选的，所述掩膜板为100层。

优选的，所述凹面反射镜的直径为800mm。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：在对光源的选择中，选择激光发射器能使光源更佳的集中，且足够强，再通过能量控制器和快门能进一步的对光线进行调整，更具有针对性；在聚光透镜组的前面加装了滤光镜和滤波器，能够删选出特定方向的光线和特定颜色的光，可以根据整个UV纳米光刻机设备需求来进行选择，更具有针对性；加大凹面反射镜的直径，能让光线更好的折射到工作平台上。

附图说明

图1本实用新型结构示意图。

图中标号说明：1、激光发射器，2、能量控制器，3、快门，4、第二折射镜， 5、滤光镜，6、滤波器，7、鹰眼聚光镜，8、遮光镜，9、凹透镜，10、第一折射镜，11、凹面反射镜，12、工作平台。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施例作进一步描述。

如图1所示，本实施例涉及一种UV纳米光刻机设备，包括光源、聚光透镜组、遮光镜8、聚光透镜、第一折射镜10、凹面反射镜11及工作平台12。