[实用新型]一种UV纳米光刻机设备

权利要求书

1.一种UV纳米光刻机设备，包括光源、聚光透镜组、遮光镜(8)、聚光透镜、第一折射镜(10)、凹面反射镜(11)及工作平台(12)，其特征在于：所述聚光透镜组前还设有滤光镜(5)和滤波器(6)，所述聚光透镜组为多组鹰眼聚光镜(7)，所述滤光镜(5)、滤波器(6)、鹰眼聚光镜(7)、遮光镜(8)、聚光透镜位于同一轴线上，且与所述第一折射镜(10)对应，所述第一折射镜(10)与一侧上方的所述凹面反射镜(11)对应，所述凹面反射镜(11)与其下方的所述工作平台(12)对应。

2.根据权利要求1所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述光源为由激光发射器(1)发出的光源，所述激光发射器(1)前设有一能量控制器(2)，所述能量控制器(2)前设有一快门(3)。

3.根据权利要求2所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述光源通过激光发射器(1)发出，经所述能量控制器(2)和所述快门(3)，再通过一第二折射镜(4)照射进所述滤光镜(5)。

4.根据权利要求1所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述聚光透镜为凹透镜(9)或凸透镜。

5.根据权利要求4所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述凹透镜(9)到所述第一折射镜(10)的距离为所述凹透镜(9)焦点的3倍。

6.根据权利要求1所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述凹面反射镜(11)的凹面处通过光学镀膜设有多层掩膜板。

7.根据权利要求6所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述掩膜板为100层。

8.根据权利要求1所述的UV纳米光刻机设备，其特征在于：所述凹面反射镜(11)的直径为800mm。