[实用新型]全自动镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种全自动镀膜装置，包括真空镀膜室，真空镀膜室内设有坩埚和离子源。坩埚和离子源设于真空镀膜室的底端，真空镀膜室顶端设有运载机构和驱动机构，能自动运载待镀产品，待镀产品在坩埚的上方移动，使蒸发的蒸镀材料镀在待镀产品上。运载机构与横贯真空镀膜室顶端的导轨相连；进料口和出料口设有自动门，自动门与气缸相连；能自动进料和出料，实现镀膜过程的全自动化，提高生产速度，降低产品的生产工时，减少生产成本。进料口与出料口设有承料台，承料台设有运料机构，真空镀膜室与真空泵相连；全自动镀膜装置设有控制电脑。本实用新型结构简单，操作方便，适合在工业生产上使用。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备技术领域，特别涉及一种全自动镀膜装置。

背景技术

镀膜是将某些微粒喷涂在物体的表面上，使这些被涂覆的物体具有更强的性能。例如，为了提高或是降低玻璃的透光率，会在玻璃的表面镀一层膜来改变玻璃的透光率。而在工业生产中为了加强某些物体的性能，都需要对这些物体进行镀膜。特别是我们平常经常用到的电子产品，其内部零件亦或是触摸屏面板，都需要进行镀膜，增强性能，以提高电子产品的可靠性和提高电子产品的使用性能。而在现有的生产技术中，镀膜设备的自动化程度不高，致使镀膜工序成为生产中的瓶颈。

为了解决上述现有技术的不足，有必要研发一种自动化程度高的镀膜设备，以提高工业的生产率。

实用新型内容

为了解决所述现有技术的不足，本实用新型提供了一种全自动镀膜装置，全自动镀膜装置设有运载机构，能自动运载待镀产品，待镀产品在坩埚的上方移动，使蒸发的蒸镀材料镀在待镀产品上。本实用新型全自动镀膜装置的进料口和出料口设有自动门和运料机构，能自动进料和出料，实现镀膜过程的全自动化，提高生产速度，降低产品的生产工时，减少生产成本。本实用新型结构简单，操作方便，适合在工业生产上使用。

本实用新型所要达到的技术效果通过以下方案实现：

一种全自动镀膜装置，包括真空镀膜室，真空镀膜室内设有用于加热蒸镀材料的坩埚和用于为蒸发状态的蒸镀材料提供能量的离子源，其特征在于：

所述坩埚和所述离子源设于所述真空镀膜室内的底端，所述真空镀膜室内顶端设有运载机构和驱动机构，所述运载机构与横贯真空镀膜室顶端的导轨相连；

所述真空镀膜室在所述导轨的两端位置所在的相对两侧分别设有进料口和出料口，所述进料口和所述出料口设有自动门，所述自动门与气缸相连；所述进料口与所述出料口设有承料台，所述承料台设有运料机构；

所述真空镀膜室与真空泵相连，所述真空泵用于对真空镀膜室抽气；

所述全自动镀膜装置设有控制电脑，所述控制电脑与所述运载机构、所述驱动机构、所述气缸以及所述运料机构相连。

进一步地，所述运载机构包括依次相连的吸盘、吸管和气缸，所述运载机构和抽气装置相连。

进一步地，所述抽气装置包括真空泵和导气管。

进一步地，所述驱动机构包括电动机、丝杆和导杆。

进一步地，所述运料机构包括导轨、运料板和气缸，所述气缸驱动运料板在导轨上运动。

进一步地，所述承料台靠近所述坩埚的一端设有挡板。

进一步地，所述自动门通过导杆与所述气缸相连，所述导杆与所述自动门相连的一端设有连接块。

进一步地，所述坩埚的周侧和底部设有线圈，所述线圈与电源相连。

进一步地，所述坩埚数量与所述离子源数量为2-8个。

进一步地，所述坩埚与所述离子源均匀设置。