[实用新型]双真空室离子束修形加工系统

说明书

本实用新型公开了一种双真空室离子束修形加工系统，该加工系统包括可相互连通的主真空室和副真空室，主真空室中设有离子源以及用于带动离子源运动的离子源运动机构，副真空室中设置有工件的加工工位，加工工位上设置有在加工时用于固定工件的夹具；副真空室沿离子源的离子束照射方向布置且加工工位在离子源照射范围内。本实用新型不必配置专用的真空传送装置将工件传送到主真空室的加工工位上，节约了成本，提高了稳定性。

技术领域

本实用新型涉及真空环境离子束修形加工技术领域，尤其涉及一种双真空室离子束修形加工系统。

背景技术

离子束修形工艺是在真空中对工件进行修形加工。

目前，离子束修形加工设备常采用单真空室设计或双真空室设计。对于单真空室离子束加工设备，每次装夹工件都需要使加工真空室破真空，然后再重新抽真空，这大大增长了加工时间，降低了加工效率。对于常见双真空室离子束加工设备，例如专利号为201210265722.0，名称为“双真空离子束抛光系统及抛光方法”的实用新型专利。加工工件时，通过离子源的多自由度运动来对固定不动的工件进行加工，加工运动均在主真空室进行。因此需要配合工件输送装置使用，需先采用专用的真空传送机构传送到位于主真空室中的工位处，将工件夹到工位上再进行加工，传动过程中传送机构需要跨越插板阀通道(导轨或其它传动支撑在阀门处是断开的)，传送机构复杂，传送成本高；并且传送装置容易产生故障，降低了加工的可靠性。同时，这种加工运动机构都位于主真空室中，副真空室的作用仅是快速更换工件，在加工过程中，副真空室没有起作用。且运动机构叠加在离子源运动机构上，一般至少是XYZ(如：三轴坐标系)叠加在一起，有的XYZ+AB(两个角度调整)都叠加在了一起，运动机构复杂，容易产生故障。

此外，常见的离子束修形设备常采用立式布局，即离子源位于下方，向上正对的待加工工件，这无疑增加了工件装夹的难度，而且加工中的溅射产物容易沉积到离子源及其运动系统上，会引起离子源故障。因此，立式加工布局为避免离子源故障，需要缩短离子源清洗维护周期。

实用新型内容

本实用新型提供了一种双真空室离子束修形加工系统，用以解决现有双真空室离子束修形加工设备需要专用的工件真空传送机构传送工件到主真空室的工位上，以及离子源运动系统结构复杂，故障率高的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提出的技术方案为：

一种双真空室离子束修形加工系统，包括通过插板阀可相互连通的主真空室和副真空室，主真空室中设有离子源以及用于带动离子源运动的离子源运动机构，副真空室中设置有工件的加工工位，加工工位上设置有在加工时用于固定工件的夹具；副真空室沿离子源的离子束照射方向布置且加工工位在离子源照射范围内。

作为本实用新型的进一步改进：

优选地，还包括工件运动机构，工件运动机构连接于加工工位与副真空室的室壁之间，工件运动机构与离子源运动机构配合组成加工运动系统。

优选地，加工运动系统包括由X向运动单元、Y向运动单元和Z向运动单元组成的直线运动系统，直线运动系统的布置包括以下情况之一：

工件运动机构包括X向运动单元、Y向运动单元和Z向运动单元中的任意一种，离子源运动机构包括其他两种运动单元中的任意一种或两种的组合；

工件运动机构包括X向运动单元、Y向运动单元和Z向运动单元中的任意两种的组合，离子源运动机构包括其余一种运动单元；

离子源运动机构包括X向运动单元、Y向运动单元和Z向运动单元中的任意一种或几种的组合；或者，

工件运动机构包括X向运动单元、Y向运动单元和Z向运动单元中的任意一种或几种的组合。