[实用新型]双真空室离子束修形加工系统

权利要求书

1.一种双真空室离子束修形加工系统，包括通过插板阀(3)可相互连通的主真空室(1)和副真空室(2)，所述主真空室(1)中设有离子源(14)以及用于带动离子源(14)运动的离子源运动机构(13)，其特征在于，所述副真空室(2)中设置有工件(4)的加工工位，所述加工工位上设置有在加工时用于固定所述工件(4)的夹具(7)；所述副真空室(2)沿所述离子源(14)的离子束照射方向布置且所述加工工位在所述离子源(14)照射范围内。

2.根据权利要求1所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，还包括工件运动机构(6)，所述工件运动机构(6)连接于加工工位与副真空室(2)的室壁之间，所述工件运动机构(6)与所述离子源运动机构(13)配合组成加工运动系统。

3.根据权利要求2所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，所述加工运动系统包括由X向运动单元(8)、Y向运动单元(9)和Z向运动单元(10)组成的直线运动系统，所述直线运动系统的布置包括以下情况之一：

所述工件运动机构(6)包括X向运动单元(8)、Y向运动单元(9)和Z向运动单元(10)中的任意一种，所述离子源运动机构(13)包括其他两种运动单元中的任意一种或两种的组合；

所述工件运动机构(6)包括X向运动单元(8)、Y向运动单元(9)和Z向运动单元(10)中的任意两种的组合，所述离子源运动机构(13)包括其余一种运动单元；

所述离子源运动机构(13)包括X向运动单元(8)、Y向运动单元(9)和Z向运动单元(10)中的任意一种或几种的组合；或者，

所述工件运动机构(6)包括X向运动单元(8)、Y向运动单元(9)和Z向运动单元(10)中的任意一种或几种的组合。

4.根据权利要求3所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，当所述工件运动机构(6)包括Z向运动单元(10)时，所述Z向运动单元(10)与所述夹具(7)相连接，Z向运动单元(10)包括Z向驱动装置以及Z向滑道(101)，所述Z向滑道(101)沿靠近或远离所述离子源(14)的方向布置，所述Z向驱动装置与所述夹具(7)连接并带动所述夹具(7)沿所述Z向滑道(101)做靠近或远离所述离子源(14)的方向运动；

所述离子源运动机构(13)包括设置在垂直于所述Z向滑道(101)的平面上X向运动单元(8)和Y向运动单元(9)，所述X向运动单元(8)包括可沿X向滑道(81)做往返运动的X向驱动装置，所述Y向运动单元(9)包括可沿Y向滑道(91)做往返运动的Y向驱动装置，所述X向滑道(81)和Y向滑道(91)相互垂直布置，所述X向运动单元(8)或Y向运动单元(9)相互连接且所述离子源(14)固定于所述X向运动单元(8)或Y向运动单元(9)上。

5.根据权利要求4所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，所述主真空室(1)中也设有Z向滑道(101)，所述主真空室(1)中的Z向滑道(101)布置于所述副真空室(2)中的Z向滑道(101)的延伸方向上使得所述Z向驱动装置带动所述夹具(7)沿所述Z向滑道(101)进入或离开所述主真空室(1)。

6.根据权利要求3所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，所述加工运动系统包括转动系统，所述转动系统包括可绕X向转动的A向转动单元(11)、可绕Y向转动的B向转动单元(12)和\或可绕Z向转动的C向转动单元；所述转动系统的布置包括以下情况之一：

所述工件运动机构(6)还包括A向转动单元(11)、B向转动单元(12)和C向转动单元中的任意一种或几种的组合；

所述离子源运动机构(13)还包括A向转动单元(11)和B向转动单元(12)中的任意一种或两种的组合。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，所述主真空室(1)与所述副真空室(2)为圆柱体或长方体；所述插板阀(3)的通孔为圆形、正方形或长方形，所述插板阀(3)位于所述主真空室(1)的任一侧面、顶面或底面上；所述操作门(5)开设于所述副真空室(2)的除固定所述工件运动机构(6)的一面之外的任意一面上。

8.根据权利要求7所述的双真空室离子束修形加工系统，其特征在于，所述工件运动机构(6)和所述离子源运动机构(13)中的运动单元均包括传动组件和驱动电机，且其中与真空室的壁连接的运动单元的传动组件与驱动电机在真空室的内外通过密封传动组件进行传动连接。