[实用新型]光刻胶排放系统

说明书

本实用新型提供一种光刻胶排放系统，光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于光刻胶供给源与缓冲罐之间，一端与光刻胶供给源一一对应连接，另一端与缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与缓冲罐一一对应连接；若干个第二供液管路，一端与缓冲罐一一对应连接。本实用新型的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

技术领域

本实用新型属于集成电路技术领域，特别是涉及一种光刻胶排放系统。

背景技术

在现有的光刻胶排放系统中，各光刻胶供给瓶与喷嘴之间的连接管路上均会设置缓冲罐(buffer tank)，所述缓冲罐用于暂存光刻胶、过滤光刻胶中的气泡及杂质；同时，缓冲罐会通过一排液管路连接至厂务排污系统以将过滤出的气泡、杂质和废光刻胶排出所述缓冲罐之外。然而，目前的光刻胶排放系统中，不同的光刻胶的缓冲罐(即与存放不同光刻胶的光刻胶供给瓶相连接的不同的缓冲罐)的排液管路是相互连通的，这必然会在排出气泡、杂质和废光刻胶的过程中造成不同的光刻胶之间的交叉污染，过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中也会经由排液管路污染正常的光刻胶，从而造成光刻胶的浪费。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光刻胶排放系统，用于解决现有技术中的光刻胶排放系统中由于连接不同的光刻胶的缓冲罐的排液管路相互连通而导致的造成不同的光刻胶之间的交叉污染的问题，以及过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中会污染正常的光刻胶的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种光刻胶排放系统，所述光刻胶排放系统包括：

若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；

若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；

若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；

若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及

若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。

作为本实用新型的一种优选方案，部分所述光刻胶供给源提供的光刻胶互不相同。

作为本实用新型的一种优选方案，若干个所述光刻胶供给源提供的光刻胶均互不相同。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶供给源包括光刻胶供给瓶。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括：

排污端口，与若干个所述排液管路远离所述缓冲罐的一端均相连接；及

厂务排污系统，与所述排污端口相连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括供气管路，一端与所述光刻胶供给源相连接，另一端与气体源相连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述气体源包括氮气源。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括若干个喷嘴，若干个所述喷嘴与所述第二供液管路远离所述缓冲罐的一端一一对应连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括：

若干个过滤器，一一对应设置于所述第二供液管路上；

若干个捕集阱，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述过滤器与所述喷嘴之间；