[实用新型]一种多基片与多磁控靶之间的位置控制电路

说明书

本实用新型涉及一种多基片与多磁控靶之间的位置控制电路，包括：光电开关K1‑K16，若干二极管D1、若干稳压二极管D2、若干电阻R1、若干电阻R2和若干三极管Q；本实用新型提供的多基片多磁控靶位置控制电路，可以完成特定基片对应特定磁控靶的位置控制，电路简单易实施。所用元器件普通便于采购，且价格低廉。是一种简单易行、设计合理的控制电路。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机设备控制领域，具体涉及多个靶位与多个基片之间的位置定位电路。

背景技术

一般采用磁控溅射镀膜的方式，在工件表面镀多种金属膜、介质膜，因此需要选用多个磁控靶，用于安装不同的靶材，达到多层镀膜的目的。在通常情况下，安装工件的基片，一般选用一个，按工艺顺序和要求选用磁控靶分别对此基片上的工件镀膜。若想安装多个工件，每个工件具有不同的工艺，在这种情况下，需要设计多个基片。为了满足多工件多工艺的控制，需要解决多基片与多磁控靶之间的定位。本实用新型公开了一种多基片与多磁控靶之间的位置控制电路。

实用新型内容

针对现有技术中存在的缺陷，本实用新型的目的是提供一种简单可靠的电路设计，达到选用的特定基片对应特定磁控靶。

为达到以上目的，本实用新型采取的技术方案是：

一种多基片与多磁控靶之间的位置控制电路，包括：光电开关K1-K16，若干二极管D1、若干稳压二极管D2、若干电阻R1、若干电阻R2和若干三极管Q；

基片Ⅰ在磁控靶Ⅳ的光电开关K4的引脚②与基片Ⅰ在磁控靶Ⅲ的光电开关K3的引脚①串联，基片Ⅰ在磁控靶Ⅲ的光电开关K3的引脚②与基片Ⅰ在磁控靶Ⅱ的光电开关K2的引脚①串联，基片Ⅰ在磁控靶Ⅱ的光电开关K2的引脚②与基片Ⅰ在磁控靶Ⅰ的光电开关K1的引脚①串联，基片Ⅰ在磁控靶Ⅳ的光电开关K4的引脚①与电阻R1的一端连接，基片Ⅰ在磁控靶Ⅰ的光电开关K1的引脚③、基片Ⅰ在磁控靶Ⅱ的光电开关K2的引脚③、基片Ⅰ在磁控靶Ⅲ的光电开关K3的引脚③、基片Ⅰ在磁控靶Ⅳ的光电开关K4的引脚③并联后与电阻R1的另一端连接，作为基片Ⅰ的输入电压端Y1；

基片Ⅱ在磁控靶Ⅳ的光电开关K8的引脚②与基片Ⅱ在磁控靶Ⅲ的光电开关K7的引脚①串联，基片Ⅱ在磁控靶Ⅲ的光电开关K7的引脚②与基片Ⅱ在磁控靶Ⅱ的光电开关K6的引脚①串联，基片Ⅱ在磁控靶Ⅱ的光电开关K6的引脚②与基片Ⅱ在磁控靶Ⅰ的光电开关K5的引脚①串联，基片Ⅱ在磁控靶Ⅳ的光电开关K8的引脚①与电阻R1的一端连接，基片Ⅱ在磁控靶Ⅰ的光电开关K5的引脚③、基片Ⅱ在磁控靶Ⅱ的光电开关K6的引脚③、基片Ⅱ在磁控靶Ⅲ的光电开关K7的引脚③、基片Ⅱ在磁控靶Ⅳ的光电开关K8的引脚③并联后与电阻R1的另一端连接，作为基片Ⅱ的输入电压端Y2；

基片Ⅲ在磁控靶Ⅳ的光电开关K12的引脚②与基片Ⅲ在磁控靶Ⅲ的光电开关K11的引脚①串联，基片Ⅲ在磁控靶Ⅲ的光电开关K11的引脚②与基片Ⅲ在磁控靶Ⅱ的光电开关K10的引脚①串联，基片Ⅲ在磁控靶Ⅱ的光电开关K10的引脚②与基片Ⅲ在磁控靶Ⅰ的光电开关K9的引脚①串联，基片Ⅲ在磁控靶Ⅳ的光电开关K12的引脚①与电阻R1的一端连接，基片Ⅲ在磁控靶Ⅰ的光电开关K9的引脚③、基片Ⅲ在磁控靶Ⅱ的光电开关K10的引脚③、基片Ⅲ在磁控靶Ⅲ的光电开关K11的引脚③、基片Ⅲ在磁控靶Ⅳ的光电开关K12的引脚③并联后与电阻R1的另一端连接，作为基片Ⅲ的输入电压端Y3；

基片Ⅳ在磁控靶Ⅳ的光电开关K16的引脚②与基片Ⅳ在磁控靶Ⅲ的光电开关K15的引脚①串联，基片Ⅳ在磁控靶Ⅲ的光电开关K15的引脚②与基片Ⅳ在磁控靶Ⅱ的光电开关K14的引脚①串联，基片Ⅳ在磁控靶Ⅱ的光电开关K14的引脚②与基片Ⅳ在磁控靶Ⅰ的光电开关K13的引脚①串联，基片Ⅳ在磁控靶Ⅳ的光电开关K16的引脚①与电阻R1的一端连接，基片Ⅳ在磁控靶Ⅰ的光电开关K13的引脚③、基片Ⅳ在磁控靶Ⅱ的光电开关K14的引脚③、基片Ⅳ在磁控靶Ⅲ的光电开关K15的引脚③、基片Ⅳ在磁控靶Ⅳ的光电开关K16的引脚③并联后与电阻R1的另一端连接，作为基片Ⅳ的输入电压端Y4；