[实用新型]制程处理设备

权利要求书

1.一种制程处理设备，其特征是包括：

一制程单元，用以对一基板进行显影、蚀刻或去膜制程，该制程单元包括一二流体雾化装置，该二流体雾化装置包括一液体幕帘出口，该二流体雾化装置用以供一气体与一液体混合雾化后形成一雾化液体流，并由该液体幕帘出口喷洒出该雾化液体流至该基板。

2.根据权利要求1所述的制程处理设备，其特征在于：该二流体雾化装置包括一第一壳体、一第二壳体、一中隔板以及一腔体混合区，该第二壳体组装于该第一壳体，该第一壳体用以导入该气体，该第二壳体用以流入该液体，该中隔板设置于该第一壳体与该第二壳体之间，该腔体混合区邻接于该中隔板，该腔体混合区连通于该液体幕帘出口，该气体与该液体于该腔体混合区混合雾化后形成该雾化液体流。

3.根据权利要求2所述的制程处理设备，其特征在于：该中隔板与该第一壳体之间界定出一气体容置区，该气体容置区连通于该腔体混合区。

4.根据权利要求2所述的制程处理设备，其特征在于：该中隔板与该第二壳体之间界定出一液体容置区，该液体容置区连通于该腔体混合区。

5.根据权利要求1所述的制程处理设备，其特征在于：该基板为一电路板、一玻璃或一半导体元件。