[实用新型]一种自动匀胶设备

说明书

本实用新型公开了一种自动匀胶设备，该自动匀胶设备包括：匀胶模块，包括匀胶吸片台和滴胶管，所述匀胶吸片台用于承载并吸附放置于所述匀胶吸片台上的衬底，还用于旋转所述衬底使所述衬底的涂胶面匀胶；所述滴胶管位于所述匀胶吸片台的上方，用于滴胶至所述匀胶吸片台上的所述衬底上；匀胶冷却模块，包括冷却喷嘴，所述冷却喷嘴设置于所述匀胶吸片台上放置的衬底的下方，用于喷射冷却液体至所述衬底朝向所述匀胶吸片台的一面，进行匀胶冷却。本实用新型提供的自动匀胶设备，保证了衬底在匀胶前温度的均匀，可以提高自动匀胶设备的匀胶的膜厚均匀性。

技术领域

本实用新型实施例涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种自动匀胶设备。

背景技术

图形化蓝宝石衬底因具备提高LED的发光与出光效率的优点已实现产业化并被业界普遍采用，目前图形化蓝宝石衬底是在蓝宝石平片衬底表面通过光刻等工艺制作微结构图形，具体包括匀胶、曝光、显影、蚀刻等制程。

匀胶制程是图形化蓝宝石衬底制作的主要流程之一，其中膜厚均匀性为考量匀胶制程的重要指标之一。匀胶制程常规流程为旋布涂胶使光刻胶均匀涂布于衬底表面、热盘烘烤使光刻胶成分固化。衬底晶片通过真空陶瓷的机械手臂在涂胶模块、固化模块等各模块间循环流转，而陶瓷的机械手臂进入热盘单元取片时难以避免经热传导作业加热升温，陶瓷的机械手臂进一步将热量通过热传递作用使旋布涂胶前的衬底局部升温，未待衬底晶片完全冷却即进行旋布涂胶直接导致该衬底晶片膜厚局部异常，膜厚均匀性极差。并且，常规工艺方法在涂胶前予以衬底晶片一定的高速空转时间，进行简单散热冷却衬底晶片。该工艺方法冷却耗时长、散热效果差，直接影响了匀胶的生产效率，同时该工艺方法匀胶的膜厚均匀性改善效果并不显著。

实用新型内容

本实用新型提供一种自动匀胶设备，以保证衬底在匀胶前温度的均匀，提高自动匀胶设备匀胶的膜厚均匀性。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种自动匀胶设备，包括：

匀胶模块，包括匀胶吸片台和滴胶管，所述匀胶吸片台用于承载并吸附放置于所述匀胶吸片台上的衬底，还用于旋转所述衬底使所述衬底的涂胶面匀胶；所述滴胶管位于所述匀胶吸片台的上方，用于滴胶至所述匀胶吸片台上的所述衬底上；

匀胶冷却模块，包括冷却喷嘴，所述冷却喷嘴设置于所述匀胶吸片台上放置的衬底的下方，用于喷射冷却液体至所述衬底朝向所述匀胶吸片台的一面，进行匀胶冷却。

可选地，所述冷却喷嘴以预设角度向所述衬底朝向所述匀胶吸片台的一面喷射冷却液体。

可选地，所述冷却喷嘴为管状结构；

所述冷却喷嘴包括相互贯通的第一导管和第二导管，所述第一导管的第一端与所述第二导管的第一端连接，所述第一导管的第二端为冷却液体接入口，所述第二导管的第二端为喷嘴口；所述第一导管的轴线垂直于所述匀胶吸片台，所述第二导管的轴线与所述第一导管的轴线之间的夹角为所述预设角度。

可选地，所述第一导管上设置有开关控制阀门、流量控制阀门以及流量表头；

所述开关控制阀用于控制所述冷却喷嘴的开启和关闭，所述流量控制阀门用于控制所述冷却液体的流量，所述流量表头用于显示所述冷却液体的当前流量。

可选地，所述预设角度的取值范围为20°-70°。

可选地，所述喷嘴口与所述衬底朝向所述匀胶吸片台的一面的距离为2mm-8mm。

可选地，还包括清洗模块，所述清洗模块包括有机溶剂喷嘴，所述有机溶剂喷嘴设置于所述匀胶吸片台上放置的衬底的下方，用于喷射有机溶剂至所述衬底朝向所述匀胶吸片台的一面，清洗所述衬底朝向所述匀胶吸片台的一面上的胶体。

可选地，所述有机溶剂喷嘴复用为所述冷却喷嘴。

可选地，该自动匀胶设备还包括：上料模块和机械手臂；