[实用新型]一种基于压电测量的晶体清洁装置

权利要求书

1.一种基于压电测量的晶体清洁装置，其特征在于，包括

用于引导气流向所述晶体的表面进行吹扫的流道；

第一电极，以及可与所述晶体导电连接的第二电极；

所述第一电极与所述第二电极之间可形成方向可变的电场。

2.根据权利要求1所述的晶体清洁装置，其特征在于，还包括壳体，所述壳体的内部设有所述流道，所述流道在所述壳体上分别形成样品入口与出口。

3.根据权利要求2所述的晶体清洁装置，其特征在于，还包括用于承载所述晶体的承载装置，所述承载装置位于所述壳体内部，并可相对所述壳体运动，以使所述晶体的待清洁表面处于与所述气流的吹扫方向相倾斜的清洁位置。

4.根据权利要求3所述的晶体清洁装置，其特征在于，所述壳体的侧壁上设置有圆弧形的导向槽，以及设于所述导向槽的圆心部位的转轴孔，所述承载装置上设有转轴与所述第二电极，所述转轴插接至所述转轴孔内，所述第二电极插接在所述导向槽内，并可沿所述导向槽滑动。

5.根据权利要求4所述的晶体清洁装置，其特征在于，还包括密封滑片，所述密封滑片与所述承载装置同步运动，且当所述承载装置运动至所述晶体待清洁表面与所述气流的吹扫方向相平行的沉降位置时，所述密封滑片完全封闭所述导向槽。

6.根据权利要求4所述的晶体清洁装置，其特征在于，所述承载装置上设有用于放置所述晶体的凹槽，所述凹槽的底部对应所述晶体上的电极区域设有通孔，所述第二电极可与所述晶体抵持接触，以将所述晶体固定在所述凹槽内。

7.根据权利要求3所述的晶体清洁装置，其特征在于，还包括传感器，所述承载装置运动至所述清洁位置时触发所述传感器，以改变所述第一电极与所述第二电极的电场方向。

8.根据权利要求3所述的晶体清洁装置，其特征在于，还包括过滤装置，所述过滤装置用于封闭所述样品入口，以对样品气流过滤后形成吹扫所述晶体的清洁气流。

9.根据权利要求2所述的晶体清洁装置，其特征在于，所述壳体包括底壁，与所述底壁的相对两侧连接的侧壁，以及分别与两侧所述侧壁连接的圆弧形顶壁，所述第一电极沿所述圆弧形顶壁的圆周方向固定于该圆弧形顶壁上，并指向所述晶体。