[实用新型]双层加热腔室和双层加热腔体组件

说明书

本实用新型公开了一种双层加热腔室和双层加热腔体组件。双层加热腔室用于原子层沉积装置，包括第一腔体和第二腔体，第一腔体内至少固定容置有1个第二腔体，第一腔体和第二腔体的内壁间隔设置。第一腔体内铺设有加热管，加热管至少包围第二腔体的。本实用新型实施方式的双层加热腔室中，加热管和第二腔体不接触，加热管产生的热量通过第一腔体和第二腔体之间传递到第二腔体中，避免第二腔体中的材料在持续高温环境中发生氧化，附着在第二腔体中的待加工元件表面，影响加工质量。

技术领域

本实用新型涉及原子层沉积领域，尤其涉及一种双层加热腔室和双层加热腔体组件。

背景技术

在相关技术中，加热管和硅片位于同一密闭空间内，加热管持续加热，为硅片提供高温环境。这种结构中，腔体内的材料容易发生氧化，附着在硅片表面，影响硅片的质量。

实用新型内容

本实用新型实施方式提供的一种双层加热腔室，用于原子层沉积装置，包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体内至少固定容置有1个所述第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体的内壁间隔设置，

所述第一腔体内铺设有加热管，所述加热管包围所述第二腔体。

本实用新型实施方式的双层加热腔室中，加热管和第二腔体不接触，加热管产生的热量通过第一腔体和第二腔体之间传递到第二腔体中，避免第二腔体中的材料在持续高温环境中发生氧化，附着在第二腔体中的待加工元件表面，影响加工质量。

在某些实施方式中，所述第一腔体和所述第二腔体在同一方向上开设有进出口。

在某些实施方式中，所述第一腔体形成2个子腔体，所述子腔体互不连通，每个所述子腔体内容置有2个所述第二腔体，所述第二腔体相互间隔。

在某些实施方式中，所述第一腔体内的底部设置有架板，所述加热管铺设在所述架板上，所述第二腔体底部设置有支撑脚，所述支撑脚固定连接所述架板，所述第二腔体和所述架板间隔。

在某些实施方式中，所述加热管呈多组阵列设置，每组加热管呈连续U 型。

在某些实施方式中，所述第一腔体和所述第二腔体之间设置有多个测温区，所述测温区均匀分布在所述第一腔体和所述第二腔体之间，所述测温区内设置有温度监控元件。

本实用新型提供一种双层加热腔体组件，用于原子层沉积装置，包括如上任一实施方式所述的双层加热腔室和门体组件，所述第一腔体和所述第二腔体在同一方向上开设有进出口，所述门体组件上固定设置有载料舟，

所述门体组件通过所述进出口可移动地设置在所述第一腔体中，所述载料舟位于所述第二腔体中。

在某些实施方式中，所述门体组件、所述第一腔体和所述第二腔体之前形成密封空间。

本实用新型实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本实用新型实施方式的原子层沉积装置的立体结构示意图；

图2是本实用新型实施方式的原子层沉积装置在I处的放大示意图；

图3是本实用新型实施方式的双层加热腔室的立体结构示意图；

图4是本实用新型实施方式的双层加热腔室的局部立体结构示意图。

具体实施方式