[实用新型]一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的邦定装置

说明书

本实用新型提供一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的邦定装置，包括有支撑结构，所述支撑结构上设有加热装置，所述加热装置包括若干均匀布置的加热体，所述加热体分别接电连接控制，所述加热装置上放置有与靶材尺寸相匹配的加热台面。本实用新型在实际应用中，邦定装置的加热台面可根据靶材的尺寸大小相应地进行更换，加热装置功率可调，能提高邦定装置的适用性，降低制造成本。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜、电池电容器薄膜制造及光电显示薄膜制造行业，具体涉及一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的邦定装置。

背景技术

目前，市场上销售的靶材邦定台要根据不同用户的靶材固定尺寸定做；其不足是：加热功率固定不能调节、焊接超大尺寸的靶材时台面尺寸及功率不足、焊接超小尺寸靶材时浪费电能、且价格高、制作周期长等；一种邦定台只能对应一定尺寸的靶材焊接；而当需要焊接的靶材尺寸较长时，邦定台就不够尺寸了，需要重新定做邦定台焊靶材，造成邦定台使用效率低，制造成本高。如何使邦定装置能适应不同尺寸的镀膜靶材进行邦定，是本实用新型需要解决的技术问题。为此，本实用新型就是在这样的背景下而研制。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中镀膜靶材邦定装置无法适应不同尺寸的靶材且加热功率固定无法调节的技术问题，提供一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的邦定装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用技术方案如下：

本实用新型提供一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的邦定装置，包括有支撑结构，所述支撑结构上设有加热装置，所述加热装置包括若干均匀布置的加热体，所述加热体分别接电连接控制，所述加热装置上放置有与靶材尺寸相匹配的加热台面。

所述加热体为电阻丝加热盘。

所述加热体下方还设有用于放置所述加热体的托盘，所述托盘固定在所述支撑结构上。

进一步地，还包括温控箱，所述温控箱用于调节所述加热装置的通断和加热温度。

所述托盘上设有能与所述电阻丝加热盘相匹配的固定槽，用于防止所述电阻丝加热盘移动。

所述固定槽上设有能与电阻丝加热盘相匹配的供电接口。

所述电阻丝加热盘包括电阻丝和用于放置所述电阻丝的陶瓷底盘。

综上所述，本实用新型的有益效果是：

本实用新型在实际应用中，邦定装置的加热台面可根据靶材的尺寸大小相应地进行更换，加热装置功率可调，能提高邦定装置的适用性，降低制造成本。

附图说明

下面结合附图对本实用新型做进一步描述。

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的爆炸示意图。

图3是本实用新型的另一实施方式结构示意图。

具体实施方式

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。