[实用新型]一种调整工具

说明书

本实用新型提供一种调整工具，用于调整在化学气相沉积工艺在镀膜过程中的加热装置的水平度，包括：一对固定架，固定架包括：水平部，水平部提供一承托面用以承托加热装置；垂直部，垂直部用以抵靠于加热装置的调节部件，垂直部设置有刻度值，刻度值对应于调节部件的垂直运动方向。本实用新型的技术方案有益效果在于：将调整工具安装于加热装置上，可以通过直观观察固定架上的刻度值来调节加热装置的调整部件，以调整加热装置的水平度，可以定量调节，方便数据的保存及后续的维修，并且不仅适用于经验丰富的技术人员的操作，也可适用于新员工的操作，进而减少了加热装置的调机时间。

技术领域

本实用新型涉及半导体检测设备技术领域，尤其涉及一种调整在化学气相沉积工艺在镀膜过程中的加热装置的水平度的调整工具。

背景技术

化学气相沉积是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。

化学气相沉积工艺在镀膜过程中，气体在喷头与加热装置之间会发生化学反应，均匀地在晶圆表面沉积呈薄膜。但喷头与加热装置的距离会影响薄膜沉积的速率，进而影响膜的厚度，为了保证膜后的均一性，需保证加热装置的水平度。目前，通过人工操作来调节加热装置的水平度，人工使用扳手调节螺栓的上升与下降，以调节加热装置的水平度，但是通过人工操作无法一次成功，浪费调机时间，并且只能通过经验丰富的技术人员进行调节，新员工无法快速上手，进而降低了检测机台的运行时间。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题，现提供一种结构简单、易于操作的调整工具。

具体技术方案如下：

一种调整工具，用于调整在化学气相沉积工艺在镀膜过程中的加热装置的水平度，其中包括：

一对固定架，所述固定架包括：

一水平部，所述水平部提供一承托面用以承托所述加热装置；

一垂直部，所述垂直部用以抵靠于所述加热装置的调节部件，所述垂直部设置有刻度值，所述刻度值对应于所述调节部件的垂直运动方向。

优选的，所述垂直部的一端连接水平部的一端。

优选的，所述垂直部连接于所述承托面的背面一侧边的中点。

优选的，所述垂直部成片状，所述垂直部的横截面中轴垂直于所述侧边。

优选的，所述水平部上具有一固定结构，通过所述固定结构固定于所述加热装置上。

优选的，所述固定结构为螺纹孔以及配合所述螺纹孔的螺栓。

优选的，所述螺纹孔的直径为1-10mm。

优选的，所述水平部的长度为100-300mm；和/或

所述水平部的宽度为50-200mm；和/或

所述水平部的厚度为5-20mm。

优选的，于所述水平部远离所述垂直部的一端具有一背向所述加热装置的斜面，

和或

所述垂直部的下端具有一背向所述调节部件的斜角。

优选的，所述调整工具由不锈钢材料制成。

本实用新型的技术方案有益效果在于：将调整工具安装于加热装置上，可以通过直观观察固定架上的刻度值来调节加热装置的调节部件，以调整加热装置的水平度，可以定量调节，方便数据的保存及后续的维修，并且不仅适用于经验丰富的技术人员的操作，也可适用于新员工的操作，进而减少了加热装置的调机时间。

附图说明