[实用新型]用于在多个板件的化学处理工艺中保持板件的篮装置有效

专利信息
申请号: 201821418224.4 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN208753283U 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 周钢;邓燕春;柯昌旭 申请(专利权)人: 奥特斯科技(重庆)有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673;H05K3/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 王晖;李丙林
地址: 401133 重*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 板件 支撑框架结构 化学处理工艺 防护板 支撑槽 平行 竖向平面 竖向支撑 装置提供 承载件 支撑
【说明书】:

提供了一种用于在多个板件(110)的化学处理工艺中保持板件(110)的篮装置(100),其中,篮装置(100)包括支撑框架结构(107),该支撑框架结构包括具有多个支撑槽(102)的至少一个底部承载件,多个支撑槽沿第一方向(103)一个接一个地布置。每个槽(102)被形成为用于将相应的板件(110)保持在竖向支撑平面内,其中,槽(102)相对于彼此形成为使得板件(110)被平行地支撑且彼此间隔开。篮装置(100)还包括防护板(105),该防护板在支撑框架结构(107)的一边缘部分处安装到支撑框架结构(107)并且与竖向平面平行。

技术领域

实用新型涉及一种用于在多个板件的化学处理工艺中保持板件的篮装置。

背景技术

板件包括多个部件承载件诸如印刷电路板(PCB)或基板,机械地支撑并电力地连接有源电子部件和无源电子部件。电子部件安装在部件承载件上并相互连接以形成工作电路或电子组件。

在制造板件期间,在例如电镀工艺或其他化学工艺诸如除污(desmear,除胶渣)工艺中处理板件。在除污工艺中,任何残留在例如板件内的钻孔的边缘处的残留物都被移除。例如,表面被活化并且石墨作为导体沉积到过孔中。在除污工艺中,对钻孔壁进行化学处理。为理想的铜镀覆准备钻孔套管,并减少玻璃纤维和树脂涂布剂。

因此,板件在篮内平行布置并彼此间隔开。承载板件的篮浸入所需的化学浴中,使得用化学物质处理板件。

然而,因为板件薄并且相对于彼此靠近地布置,所以可能发生板件的叠置,使得板件可能包括化学处理不充分的区域。因此,例如在板件的化学处理之后仍然存在钻孔的非板状区域或尖锐边缘。

可能需要提供一种在化学处理期间为板件提供可靠运送的篮。

实用新型内容

根据本实用新型的第一方面,提出了一种用于在多个板件的化学处理工艺中保持板件的篮装置。该篮装置包括支撑框架结构,该支撑框架结构包括具有多个支撑槽的至少一个底部承载件,该多个支撑槽沿第一方向一个接一个地布置。每个槽被形成为用于将相应的板件保持在竖向支撑平面内,其中槽相对于彼此形成为使得板件被平行地支撑且彼此间隔开。篮装置还包括防护板,该防护板在支撑框架结构的一边缘部分处安装到支撑框架结构并且与竖向平面平行。

板件包括多个部件承载件。该板件可以包括至少一个电绝缘层结构和至少一个导电层结构的堆叠体。例如,部件承载件可以是所述电绝缘层结构和导电层结构的层叠体,特别是通过施加机械压力形成,如果需要的话所述形成过程受热能支持。所述的堆叠体可以提供板状部件承载件,该板状部件承载件能够为另外的部件提供大的安装表面并且仍然非常薄且紧凑。术语“层结构”可以特别地表示公共平面内的连续层、图案化层或多个非连续岛。在本实用新型的上下文中,术语“层结构”可以是单层或多层组件。

部件承载件被配置为由印刷电路板和基板(特别是IC基板)构成的组之一。在本申请的上下文中,术语“印刷电路板”(PCB)可以特别地表示通过将若干导电层结构与若干电绝缘层结构层叠形成的部件承载件(其可以是板状的(即平面的)、三维曲面的(例如当使用3D打印制造时)或者其可以具有任何其他形状),上述形成过程例如通过施加压力和/或通过供应热能形成。作为用于PCB技术的优选材料,导电层结构由铜制成,而电绝缘层结构可以包括树脂和/或玻璃纤维、所谓的预浸料或FR4材料。通过形成穿过层压体的通孔,例如通过激光钻孔或机械钻孔,并且通过用导电材料(尤其是铜)填充这些通孔,由此形成作为通孔连接的过孔,来使各个导电层结构可以以期望的方式连接至彼此。除了可以嵌入在印刷电路板的一个或多个部件之外,印刷电路板通常被配置成在板状印刷电路板的一个或两个相反表面上容纳一个或多个部件。部件可以通过焊接连接至相应的主表面。PCB的介电部分可以由具有加强纤维(诸如玻璃纤维)的树脂构成。

篮装置的支撑框架结构包括例如多个杆,该多个杆彼此耦接以便为板件提供坚硬且刚性的支撑框架。杆可以旋拧或焊接在一起。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥特斯科技(重庆)有限公司,未经奥特斯科技(重庆)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821418224.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top