[实用新型]一种LED芯片有效

专利信息
申请号: 201821304442.5 申请日: 2018-08-13
公开(公告)号: CN208538901U 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 崔永进;庄家铭 申请(专利权)人: 佛山市国星半导体技术有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 胡枫
地址: 528200 广东省佛山市南海区狮*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电极 悬空部 本实用新型 第二电极 第一电极 发光结构 有效发光面积 影响芯片 衬底 芯片
【说明书】:

本实用新型公开了一种LED芯片,包括衬底、发光结构和电极,所述电极包括第一电极和第二电极,第一电极和第二电极均包括本体,以及设置在本体上的悬空部,所述悬空部的面积大于本体的面积,且悬空部大于本体面积的部分结构不与发光结构相接触。本实用新型在不影响芯片电压的情况下,降低电极面积占有效发光面积的比例,提高芯片亮度。

技术领域

本实用新型涉及发光二极管技术领域,尤其涉及一种LED芯片。

背景技术

LED(Light Emitting Diode,发光二极管)是一种利用载流子复合时释放能量形成发光的半导体器件,正装LED芯片具有耗电低、色度纯、寿命长、体积小、响应时间快、节能环保等诸多优势。

传统LED芯片的N型电极和P型电极均设置在发光层的表面,用于增加芯片的电流扩展。如图1所示,图1是传统LED芯片的示意图,由于电极由金属制成,位于发光层表面的电极会阻挡发光层发出的光从芯片的正面出射,减少芯片有效发光面积,从而降低芯片的亮度。其中,芯片电极的面积越大,芯片的有效发光面积越小,亮度越低。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种LED芯片,电极面积占有效发光面积的比例低,亮度高。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种LED芯片,包括衬底、发光结构和电极,所述电极包括第一电极和第二电极,第一电极和第二电极均包括本体,以及设置在本体上的悬空部,所述悬空部的面积大于本体的面积,且悬空部大于本体面积的部分结构不与发光结构相接触。

作为上述方案的改进,所述悬空部与本体的轴心相同,且所述悬空部边缘与本体边缘的水平直线距离为10-15微米。

作为上述方案的改进,所述悬空部边缘与本体边缘的水平直线距离为12-14微米。

作为上述方案的改进,所述本体的高度为1.3-1.5微米,所述悬空部的高度为1.5-2微米。

作为上述方案的改进,所述发光结构包括设于衬底上的第一半导体层,设于第一半导体层上的有源层,设于有源层上的第二半导体层,设于第二半导体层上的电流阻挡层,以及设于电流阻挡层和第二半导体层上的透明导电层。

作为上述方案的改进,所述第一电极和第二电极的结构均为Rh/W/Ti/W/Ti/W/Ti/W/Ti/Pt/Au。

作为上述方案的改进,第一电极和第二电极的每层厚度为:Rh:W:Ti:W:Ti:W:Ti:W:Ti:Pt:Au:

实施本实用新型,具有如下有益效果:

1、本实用新型提供的LED芯片,电极面积和传统LED芯片电极的面积相同,由于本体的面积小于传统LED芯片电极的面积,即,本实用新型电极与透明导电层、第一半导体层的接触面积减少,从而减少电极面积占发光面积的比例,提高芯片的有效发光面积,在不影响芯片电压的情况下,提高芯片的亮度。此外,还可以节省部分电极的原料,降低成本。

附图说明

图1为现有LED芯片的示意图;

图2是本实用新型LED芯片的结构示意图;

图3是本实用新型LED芯片的示意图;

图4是本实用新型LED芯片的制作流程图;

图4a是本实用新型LED晶圆的结构示意图;

图4b是本实用新型LED晶圆形成第三孔洞后的结构示意图;

图4c是本实用新型LED晶圆形成第五孔洞后的结构示意图;

图4d是本实用新型LED晶圆除去光刻胶后的结构示意图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市国星半导体技术有限公司,未经佛山市国星半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821304442.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top