[实用新型]掩模版清洁装置

权利要求书

1.一种掩模版清洁装置，包括用于检测掩模版上颗粒物坐标的曝光机，其特征在于，还包括用于容纳所述掩模版的密闭腔室、以及位于所述密闭腔室内的吹扫组件；所述吹扫组件连接所述曝光机，用于获取所述掩模版上颗粒物的坐标，并根据所述坐标对所述掩模版进行吹扫，以清除所述掩模版上的颗粒物。

2.根据权利要求1所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述吹扫组件包括控制器和至少一氮气枪；所述控制器连接所述曝光机与所述氮气枪，用于获取所述掩模版上颗粒物的坐标，并控制所述氮气枪朝向所述坐标处喷射氮气。

3.根据权利要求2所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述氮气枪喷射氮气的方向与所述掩模版所在平面的夹角为45度。

4.根据权利要求2所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述密闭腔室内还包括用于承载所述掩模版的承载台；至少一氮气枪包括多个氮气枪，且多个氮气枪关于所述承载台的轴向对称设置。

5.根据权利要求2所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述曝光机还用于检测所述颗粒物的粒径；所述控制器用于获取所述颗粒物的粒径，并根据所述粒径调整所述氮气枪喷射氮气的流速。

6.根据权利要求1所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述密闭腔室的相对两端分别具有第一开口和第二开口，第一气体经所述第一开口进入所述密闭腔室，以将所述密闭腔室内的所述颗粒物自所述第二开口排出。

7.根据权利要求6所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述第一气体为氮气。

8.根据权利要求6所述的掩模版清洁装置，其特征在于，所述密闭腔室的端部具有一第三开口，所述掩模版经所述第三开口进出所述密闭腔室。

9.根据权利要求8所述的掩模版清洁装置，其特征在于，还包括位于所述第三开口处的传感器和挡板；所述传感器用于检测所述掩模版是否进入所述密闭腔室，若是，则驱动所述挡板封闭所述第三开口。