[实用新型]一种硅电极环的台阶抛光设备有效
申请号: | 201821268030.0 | 申请日: | 2018-08-07 |
公开(公告)号: | CN208601309U | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 潘连胜;潘一鸣;戴伟鹏 | 申请(专利权)人: | 福建精工半导体有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/22;B24B55/03 |
代理公司: | 北京金蓄专利代理有限公司 11544 | 代理人: | 孙巍 |
地址: | 362300 福建省泉州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转动轴 电机 硅电极 转动台 顶面 支撑台 油缸 传动连接 抛光设备 活塞杆 底端 底面 磨头 可拆卸的 控制系统 抛光效率 自动抛光 抛光带 支架顶 朝上 适配 受控 压环 支架 伸出 支撑 | ||
一种硅电极环的台阶抛光设备,包括支架、设于支架顶面的支撑台以及设于支撑台上方的转动台,所述支撑台的顶面设有油缸,该油缸的活塞杆朝上,该活塞杆的顶面与一箱体的底面连接,所述箱体的前端设有转动轴,该转动轴的顶端位于箱体内,该转动轴的底端伸出箱体外,所述箱体的后端设有第一电机,该第一电机与转动轴传动连接,所述支撑台的后端设有第二电机,该第二电机与转动台传动连接,所述转动台的顶面与硅电极环相适配,该转动台的顶面设有可拆卸的压环,所述转动轴的底端设有磨头,该磨头的底面设有一台阶,该台阶上设有抛光带,所述油缸、第一电机及第二电机均受控于一控制系统。本设备采用自动抛光的方式,提高了硅电极环的抛光效率及精度。
技术领域
本实用新型涉及一种抛光设备,具体的说是指一种硅电极环的台阶抛光设备。
背景技术
单晶硅,是硅的单晶体,具有基本完整的点阵结构的晶体,其在不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造,其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域,在军事电子设备中也占有重要地位。
目前,单晶硅可用于生产硅电极环,生产后的硅电极环具有一台阶,在后续的加工中需要对该台阶进行抛光。当前,对硅电极环的台阶的抛光方式采用人工抛光,但是采用人工抛光方式的效率很低,而且抛光精度不高。
实用新型内容
本实用新型提供的是一种硅电极环的台阶抛光设备,其主要目的在于克服现有的硅电极环采用人工抛光而造成效率低下、抛光精度不高的问题。
为了解决上述的技术问题,本实用新型采用如下的技术方案:
一种硅电极环的台阶抛光设备,包括支架、设于支架顶面的支撑台以及设于支撑台上方的转动台,所述支撑台的顶面设有油缸,该油缸的活塞杆朝上,该活塞杆的顶面与一箱体的底面连接,所述箱体的前端设有转动轴,该转动轴的顶端位于箱体内,该转动轴的底端伸出箱体外,所述箱体的后端设有第一电机,该第一电机与转动轴传动连接,所述支撑台的后端设有第二电机,该第二电机与转动台传动连接,所述转动台的顶面与硅电极环相适配,该转动台的顶面设有可拆卸的压环,所述转动轴的底端设有磨头,该磨头的底面设有一台阶,该台阶上设有抛光带,所述油缸、第一电机及第二电机均受控于一控制系统。
进一步的,所述支撑台的顶面设有罩壳,所述转动台位于罩壳内,所述罩壳的顶面叠设有挡水板,该挡水板的前端留有取件口,所述支架的一侧设有装有冷却液的储液槽,该储液槽的侧面设有与其内部连通的水泵,该水泵与一冷却液管的一端连通,该冷却液管的另一端穿过挡水板并对着磨头,所述罩壳的一侧面设有出液口,该出液口与一斜向下设置的出液通道连通,该出液通道位于储液槽的上方。
进一步的,所述转动轴的顶端与一第一从皮带轮连接,所述第一电机的输出轴伸入箱体内并与一第一主皮带轮连接,所述第一主皮带轮和第一从皮带轮之间设有第一皮带。
进一步的,所述转动台的底面与一传动轴的顶端连接,该传动轴的中部与一第二从皮带轮连接,所述第二电机的输出轴伸入支撑台的后端内并与一第二主皮带轮连接,所述第二主皮带轮和第二从皮带轮之间设有第二皮带。
由上述对本实用新型的描述可知,和现有技术相比,本实用新型具有如下优点:本实用新型结构新颖、设计巧妙,将硅电极环放置于转动台的顶面,然后用压环将其压紧,控制系统控制第一电机带动磨头转动,控制第二电机带动转动台转动,磨头的转动方向与转动台的转动方向相反,然后油缸带动箱体下降,磨头上的抛光带开设对硅电极环的台阶进行抛光,待抛光完成后油缸带动箱体上升,第一电机和第二电机停止工作,卸下压环取出硅电极环即完成了一个硅电极环的抛光。本实用新型采用自动抛光的方式,大大提高了硅电极环的抛光效率及抛光精度。
附图说明
图1为本实用新型的主视示意图。
具体实施方式
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