[实用新型]一种用于真空吸附的吸盘有效

专利信息
申请号: 201821257098.9 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN208713690U 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 王峰;范利康;陈翻 申请(专利权)人: 武汉正源高理光学有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06;B28D7/04;C03B33/10
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 真空吸附 吸盘 基板 玻璃基材 抽真空 方框型 负压区 凸台 载具 本实用新型 基板上表面 两端开口 抛光设备 穿孔的 穿孔 取放 平整 外部
【权利要求书】:

1.一种用于真空吸附的吸盘,其特征在于:它包括一块基板(1),所述基板(1)上表面设有方框型凸台(2),所述方框型凸台(2)与基板(1)构成一个负压区(7);所述基板(1)上设有抽真空穿孔(3),所述抽真空穿孔(3)的两端开口分别位于负压区(7)内部和外部。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空吸附的吸盘,其特征在于:所述方框型凸台(2)上表面设有方形的密封槽(6),所述密封槽(6)内安装有密封条。

3.根据权利要求2所述的一种用于真空吸附的吸盘,其特征在于:所述方框型凸台(2)内的基板(1)上设有支撑块(4)。

4.根据权利要求3所述的一种用于真空吸附的吸盘,其特征在于:所述支撑块(4)为L型,有四块,所述四块支撑块(4)组合成一个正方形布置在方框型凸台(2)内。

5.根据权利要求4所述的一种用于真空吸附的吸盘,其特征在于:所述基板(1)上还设有两块限位块(5),所述两块限位块(5)位于方框型凸台(2)外部,并且分别紧贴方框型凸台(2)的两个领边,所述限位块(5)的高度高于方框型凸台(2)的高度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉正源高理光学有限公司,未经武汉正源高理光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821257098.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top