[实用新型]一种用于半导体晶圆翻膜装置有效
申请号: | 201821253524.1 | 申请日: | 2018-08-06 |
公开(公告)号: | CN208570553U | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 王成;徐晶骥 | 申请(专利权)人: | 上海东煦电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683;H01L21/687 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200120 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固定板 上端面 滑槽 焊接 工作台 半导体晶圆 本实用新型 第二滑块 第一滑块 滑动安装 连接绳 膜装置 支撑板 固定半导体 末端连接 固定槽 焊接板 连接杆 内表面 吸附板 下端面 翻模 晶圆 托板 把手 | ||
本实用新型公开了一种用于半导体晶圆翻膜装置,包括工作台、第一固定板和翻模板,所述工作台的上端面开设有第二滑槽,第二滑槽上滑动安装有第二滑块,所述第一固定板焊接在第二滑块的上端面,第一固定板的一侧通过焊接板焊接有第二固定板,第二固定板上安装有托板,所述第一固定板和第二固定板内表面均开设有固定槽,所述工作台的上端面两侧均焊接有支撑板,支撑板的上端面开设有第一滑槽,第一滑槽内滑动安装有第一滑块,所述翻模板通过连接杆焊接在第一滑块之间,翻模板的上端面固定有把手,所述翻模板下端面连接有连接绳,连接绳的末端连接有吸附板。本实用新型具有固定半导体晶圆和便于操作、翻模效率高的优点。
技术领域
本实用新型涉及半导体晶圆翻膜技术领域,具体为一种用于半导体晶圆翻膜装置。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。晶圆片加工过程包括若干工艺步骤,包括划片、翻膜、背检、扩膜、裂片、测试、分拣等工艺步骤。翻膜则是在划片之后,在撕膜过程中,一般是采取人工按压定位的方式,由于采取人工按压定位方式不稳定,晶圆片得不到有效定位,正面膜与晶圆片之间的粘力较大,在撕膜过程中,晶圆片会发生移动,因此反面膜会跟随正面膜方向上有移动且褶皱,从而引起晶粒排列歪斜、旋转等排列异常的情况出现,而且由于操作人员是一手固定、一手撕膜,不便于操作,膜剥离过程中会导致膜撕裂和剥离速度缓慢的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于半导体晶圆翻膜装置,具备固定半导体晶圆的优点,解决由于操作人员是一手固定、一手撕膜,不便于操作,膜剥离过程中会导致膜撕裂和剥离速度缓慢的缺点。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于半导体晶圆翻膜装置,包括工作台、第一固定板和翻模板,所述工作台的上端面开设有第二滑槽,第二滑槽上滑动安装有第二滑块,所述第一固定板焊接在第二滑块的上端面,第一固定板的一侧通过焊接板焊接有第二固定板,第二固定板上安装有托板,所述第一固定板和第二固定板内表面均开设有固定槽,所述工作台的上端面两侧均焊接有支撑板,支撑板的上端面开设有第一滑槽,第一滑槽内滑动安装有第一滑块,所述翻模板通过连接杆焊接在第一滑块之间,翻模板的上端面固定有把手,所述翻模板下端面连接有连接绳,连接绳的末端连接有吸附板。
优选的,所述工作台的下端面焊接有支腿,支腿共设有四个,且四个支腿关于工作台呈矩形阵列分布。
优选的,所述支腿的下端面焊接有底座板,底座板上开设有固定孔。
优选的,所述第一固定板的侧端面焊接有对称分布的固定块,固定块与工作台表面均开设有插销槽,插销槽内插接有插销。
优选的,所述吸附板的下端面固定有吸盘,吸盘共设有五个,且五个吸盘关于吸附板两两之间呈均匀等距分布。
优选的,所述连接绳共设有三个,且三个连接绳关于翻模板两两之间呈均匀等距分布。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本实用新型通过设置第一固定板和第二固定板的配合,达到了固定半导体晶圆的效果,在撕膜过程中,一般是采取人工按压定位的方式,由于采取人工按压定位方式不稳定,晶圆片得不到有效定位,正面膜与晶圆片之间的粘力较大,在撕膜过程中,晶圆片会发生移动,因此反面膜会跟随正面膜方向上有移动且褶皱,从而引起晶粒排列歪斜、旋转等排列异常的情况出现,通过将半导体晶圆放置在第二固定板上的托板上,然后移动第一固定板,使第一固定板贴合半导体晶圆,使半导体晶圆位于第一固定板和第二固定板上的固定槽内,然后通过插销插接在插销槽内固定第一固定板,可以将半导体晶圆的边缘固定,防止在翻模过程中半导体晶圆发生移动的现象。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造