[实用新型]一种真空涂层机有效

专利信息
申请号: 201821239015.3 申请日: 2018-08-02
公开(公告)号: CN208604199U 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 陈金海;刘涛;金勇超;梁文勇 申请(专利权)人: 科汇纳米技术(常州)有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 南京禾易知识产权代理有限公司 32320 代理人: 王彩君
地址: 213135 江苏省常州市新北区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 转动机构 密封箱 液压缸 本实用新型 真空涂层机 活塞杆 工作室 靶材 顶推 基板 开合 气缸 直杆 隔板 活塞杆移动 密封箱内壁 顶部开口 涂层作业 移动控制 转动调整 转动结构 活动盖 活动门 机械室 密封性 真空泵 伸缩 分隔 密封 转动 保证
【说明书】:

实用新型公开了一种真空涂层机,包括密封箱和真空泵,密封箱内部通过隔板分隔为工作室和机械室,工作室两侧的密封箱内壁对应安装有四组转动机构,四组转动结构的一侧对应安装有四组基板,四组基板远离四组转动机构的一侧对应安装有四组靶材,本实用新型,利用液压缸工作使液压缸的活塞杆移动,由液压缸的活塞杆移顶推活动盖移动控制密封箱顶部开口的开合,便于保证密封箱的密封性,同时提高活动门开合的灵活性,便于涂层的质量;利用转动机构的气缸工作,由气缸的活塞杆的伸缩顶推直杆转动,直杆转动调整靶材的朝向,便于对工件的不同面进行涂层作业,提高涂层的效果和整个装置的适应性。

技术领域

本实用新型涉及涂层装置相关技术领域,具体为一种真空涂层机。

背景技术

目前真空涂层机采用的是方靶阴极装置系统,方靶阴极装置系统中的方形靶材体积都比较大,基于靶材可否有效使用的标准是根据靶材上已蒸发的局部深度为准,当使用的靶材某个局部蒸发到一定的极限深度时靶材将报废无法继续使用。由于方形靶材体积比较大报废的靶材也无法进行修磨后再次使用因此造成了极大的原材料的浪费。使用方靶系统由于靶材体积比较大,电弧发生器蒸发靶材时相对蒸发速率比较慢,蒸发出来的金属粒子比较粗因此无法得到致密性很高的涂层,现有的真空涂层机的开口开合不易,影响密封箱的密封性,同时现有装置靶材位置固定,靶材的金属蒸发方向一定不易对工件的不同面进行涂层,影响涂层效果,为此本实用新型提出一种真空涂层机用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空涂层机,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种真空涂层机,包括密封箱和真空泵,所述密封箱内部通过隔板分隔为工作室和机械室,所述工作室两侧的密封箱内壁对应安装有四组转动机构,四组所述转动结构的一侧对应安装有四组基板,四组所述基板远离四组转动机构的一侧对应安装有四组靶材,所述密封箱外部的两侧相对应于四组转动机构的位置安装有四组电弧发生器,所述密封箱顶部开口的两侧对应安装有两组液压缸,两组所述液压缸的活塞杆末端对应通过两根连杆连接活动盖的两侧,所述工作室内部的下侧水平焊接有隔离网,所述隔离网的顶部水平安装有加热板,所述机械室的内部安装有真空泵,所述转动机构包括直杆、底箱和连接耳,所述连接耳通过螺栓固定在底箱一侧的中部,所述连接耳通过销轴转动连接直杆的一端。

优选的,所述转动机构还包括气缸,两组所述气缸的底板对应转动连接底箱一侧的上部和下部,两组所述气缸的活塞杆末端对应连接直杆中部的两侧。

优选的,所述直杆的另一端通过螺栓连接基板一侧的中部,四组所述靶材通过四根导线连接四组对应的电弧发生器。

优选的,所述真空泵两侧的进口密封连接两根输气管的一端,两根所述输气管的另一端连通工作室的底部。

优选的,所述密封箱顶部在开口的两侧对应安装有两组导轨,两组所述导轨外部对应滑动安装有两根连杆中部焊接的滑座。

优选的,所述加热板通过导线连接外部的电源,所述密封箱的底部呈矩形安装有四组导轮。

优选的,所述底箱的一侧开设有供直杆穿过的通孔,所述密封箱顶部的开口外缘安装有密封圈。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1.利用液压缸工作使液压缸的活塞杆移动,由液压缸的活塞杆移顶推活动盖移动控制密封箱顶部开口的开合,便于保证密封箱的密封性,同时提高活动门开合的灵活性,便于涂层的质量;

2.利用多个电弧发生器单独控制每个圆形靶材让其均匀挥发,所以生产出来的涂层金属颗粒更小从而使涂层结构更致密,提高涂层的质量;

3、利用转动机构的气缸工作,由气缸的活塞杆的伸缩顶推直杆转动,直杆转动调整靶材的朝向,便于对工件的不同面进行涂层作业,提高涂层的效果和整个装置的适应性。

附图说明

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