[实用新型]制备柔性显示屏用复合基板有效
| 申请号: | 201821238282.9 | 申请日: | 2018-08-02 |
| 公开(公告)号: | CN208655700U | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
| 发明(设计)人: | 刘林佳;朱阳杰;陆海峰 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L51/52;H01L51/56;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇 |
| 地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 柔性层 牺牲层 基底 柔性显示屏 复合基板 激光剥离 粘附 制备 黑斑 本实用新型 剥离效果 半透明 发生率 复合基 无机层 黑点 时基 制程 | ||
本实用新型涉及一种制备柔性显示屏用复合基板,其中复合基板结构包括:基底;牺牲层,牺牲层设置在基底上,牺牲层为半透明的无机层;以及柔性层,柔性层设置在牺牲层上。本实用新型通过牺牲层的设置,降低了激光剥离时基底与柔性层之间的粘附力,改善激光剥离制程中基底与柔性层之间的粘附力和剥离效果,从而达到保护柔性层、减少黑斑黑点发生率的效果。
技术领域
本实用新型涉及一种柔性显示技术领域,特别是涉及一种制备柔性显示屏用复合基板。
背景技术
主动矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light emitting diode,AMOLED)显示技术近年来较受关注,目前大多数柔性显示屏所采用的就是这种显示技术。在柔性显示屏的研发中,所需克服的技术难题之一就是对带有玻璃的柔性基板进行激光剥离(Laser Lift Off,LLO)的问题。在对带有玻璃的柔性基板进行激光剥离(Laser Lift Off,LLO)的制程中,可能会造成柔性基板损伤,随后水汽入侵将导致有机发光材料失效,进而导致有机发光二极管发光时会产生黑斑或黑点,造成较大的良率损失及材料浪费。
经过申请人的长期观察与研究发现,AMOLED的柔性基板在通过激光剥离(LLO)后会产生黑斑或黑点的主要原因是,聚酰亚胺(PI)衬底和玻璃之间较强的粘附力,使聚酰亚胺(PI)在激光剥离(LLO)时难以剥离从而产生损伤,水汽入侵后导致有机发光材料失效,进而使得有机发光二极管发光时,由于失效的部分材料无法发光,所以会产生黑点。
现有技术公开了一种在基底玻璃与柔性基底之间增加有机层/非晶硅层/有机层的三明治结构,藉由这样的结构设计来解决激光剥离制程后产生黑斑或黑点的技术问题。但是,现有技术的这种多层结构生产成本相对提高,且生产工序复杂,导致设备产能低。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板,通过在基底及柔性层之间设置残留有氢元素的牺牲层,以改善激光剥离(Laser Lift Off,LLO)的制程中会产生黑斑或黑点的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种制备柔性显示屏用复合基板,其中复合基板包括:基底;牺牲层,牺牲层设置在基底上,所述牺牲层为半透明的无机层;以及柔性层,柔性层设置在牺牲层上。
本实用新型的进一步技术方案是,牺牲层为通过化学气相沉积法沉积且未经脱氢处理制备的无机层。
本实用新型的又进一步技术方案是,牺牲层中的氢原子的原子数百分含量大于2%,优选为5-10%。
本实用新型的再进一步技术方案是,牺牲层为单一层结构。
本实用新型的再进一步技术方案是,牺牲层的主体材质为非晶硅、碳化硅或氮化镓。
本实用新型的再进一步技术方案是,所述牺牲层的主体材质为非晶硅,厚度小于20nm,优选为5-10nm;所述牺牲层的主体材质为碳化硅,厚度小于30nm,优选为10-20nm;所述牺牲层的主体材质为氮化镓,厚度小于30nm,优选为10-20nm。
本实用新型的再进一步技术方案是,基底为玻璃层,优选所述柔性层的材质为聚酰亚胺。
本实用新型还提供一种柔性显示屏的制备方法,其中所述制备方法包括以下步骤:
在基底上沉积牺牲层,所述牺牲层为含有氢元素且半透明的无机层;
在牺牲层上形成柔性层;
在柔性层上形成电子元件;以及
激光照射基底,使得牺牲层中氢元素形成氢气气泡,以剥离牺牲层和无机层。
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