[实用新型]制备柔性显示屏用复合基板有效
| 申请号: | 201821238282.9 | 申请日: | 2018-08-02 |
| 公开(公告)号: | CN208655700U | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
| 发明(设计)人: | 刘林佳;朱阳杰;陆海峰 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L51/52;H01L51/56;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇 |
| 地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 柔性层 牺牲层 基底 柔性显示屏 复合基板 激光剥离 粘附 制备 黑斑 本实用新型 剥离效果 半透明 发生率 复合基 无机层 黑点 时基 制程 | ||
1.一种制备柔性显示屏用复合基板,其特征在于,所述复合基板包括:
基底;
牺牲层,所述牺牲层设置在基底上,所述牺牲层为含有氢元素的半透明的无机层;以及
柔性层,所述柔性层设置在牺牲层上。
2.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层为通过化学气相沉积法沉积且未经脱氢处理制备的无机层。
3.根据权利要求2所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层中的氢原子的原子数百分含量为5-10%。
4.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层为单一层结构。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层的主体材质为非晶硅、碳化硅或氮化镓。
6.根据权利要求5所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层的主体材质为非晶硅,所述牺牲层厚度为5-10nm。
7.根据权利要求5所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层的主体材质为碳化硅,所述牺牲层的厚度为10-20nm。
8.根据权利要求4所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层的材质为氮化镓,所述牺牲层的厚度为10-20nm。
9.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述基底为玻璃层。
10.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述柔性层的材质为聚酰亚胺。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





