[实用新型]一种高双折射保偏光纤的模式双折射的测量装置有效

专利信息
申请号: 201821225664.8 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN211262664U 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 孟卓;朱佑强;赵保来 申请(专利权)人: 天津博科光电科技有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 天津协众信创知识产权代理事务所(普通合伙) 12230 代理人: 李京京
地址: 300393 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 双折射 偏光 模式 测量 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种高双折射保偏光纤的模式双折射的测量装置。装置中电光调制器将第一微波信号调制到光线上形成光载微波信号,光载微波信号经待测高双折射保偏光纤后形成两路光程差不同的光载微波信号,两路光程差不同的光载微波信号经光电探测器后输入至混频器的射频输入端,混频器将两路光程差不同的光载微波信号与第二微波信号混频后的中频信号经低通滤波器后的直流信号输入至数据采集电路,数据采集电路将直流信号不同幅值处的频率输入至计算机进行计算。本实用新型实现了高双折射保偏光纤的模式双折射精确测量的目的。

技术领域

本实用新型涉及光纤测量技术领域,特别是涉及一种高双折射保偏光纤的模式双折射的测量装置。

背景技术

高双折射保偏光纤在光纤陀螺、光纤电流互感器和保偏光器件等领域有广泛的应用。在这些应用中,保偏光纤的保偏性能是决定其应用的关键,一般用模式双折射或拍长来衡量保偏光纤的保偏性能,其中,高双折射保偏光纤的模式双折射等于保偏光纤两偏振本征轴折射率差的大小。

已有技术中高双折射保偏光纤模式双折射的测量主要有扭转法、瑞利散射法、压力法、棱镜耦合法、电光或磁光调制法、偏振模色散法、光偏振法、波长扫描法、剪断法、光频域反射计等方法。上述方法都是基于光学原理来测量高双折射保偏光纤模式双折射,不同的光学原理测量方法都会出现精度的偏差而且会受到测量工具及环境的影响。因此,本领域技术人员亟需提供一种测量装置以改变基于光学原理的测量装置进而提高测量精度的目的。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种高双折射保偏光纤的模式双折射的测量装置,以实现高双折射保偏光纤的模式双折射精确测量的目的。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种高双折射保偏光纤的模式双折射的测量装置。所述测量装置包括宽谱光源、在光的传播方向上依次设置的起偏器、电光调制器、待测高双折射保偏光纤、检偏器、光电探测器、混频器、数据采集电路和计算机;以及扫频信号源、与所述扫频信号源连接的微波功分器,与所述微波功分器的第二输出端连接的微波移相器,所述微波移相器的输出端连接所述混频器的本振输入端,将所述第二微波信号输入所述混频器;

所述微波功分器的第一输出端与所述电光调制器的射频输入端连接,所述电光调制器将所述微波功分器输出的第一微波信号调制到光线上形成光载微波信号,所述光载微波信号经所述待测高双折射保偏光纤后形成两路光程差不同的光载微波信号,所述两路光程差不同的光载微波信号经所述光电探测器后输入至所述混频器的射频输入端,所述混频器将所述两路光程差不同的光载微波信号与所述第二微波信号混频后的中频信号经低通滤波器后的直流信号输入至所述数据采集电路,所述数据采集电路将所述直流信号不同幅值处的频率输入至所述计算机。

可选的,所述电光调制器的输出端为保偏光纤且与所述待测高双折射保偏光纤采用45°熔接方式连接。

可选的,所述待测高双折射保偏光纤的两个偏振本振轴与所述检偏器成45°夹角。

可选的,所述光电探测器与所述混频器之间还设置有低噪放大器。

可选的,所述测量装置还包括电光调制器控制电路,所述电光调制器控制电路与所述电光调制器连接。

根据本实用新型提供的具体实施例,本实用新型公开了以下技术效果:本实用新型公开的高双折射保偏光纤的模式双折射的测量装置是将待测高双折射保偏光纤放置在测量装置内,使其能够产生两路光程差不同的光载微波信号。根据数据采集电路测量得到的直流信号的两个相邻的波谷的频率值和待测保偏光纤的长度就可以得到待测保偏光纤的模式双折射。测量结果与混频器两输入信号的幅值无关,解决了混频器混频测量时输入信号波动对测量结果影响较大的这一难题。

另外,本实用新型对长距离保偏光纤的模式双折射的测量更准确,解决了目前传统光学测量方法只能测量短保偏光纤模式双折射的问题。

附图说明

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