[实用新型]应用于压接型MOSFET的栅极结构有效

专利信息
申请号: 201821186545.6 申请日: 2018-07-25
公开(公告)号: CN208690252U 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 陈政宇;曾嵘;赵彪;余占清;刘佳鹏;周文鹏 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L23/48
代理公司: 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11594 代理人: 王冲;吴鑫
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 压接 栅极结构 栅极连接 铜块 棒状金属 栅极控制信号 弹性结构 绝缘介质 连接接口 散热路径 散热能力 压装结构 栅极接触 应用 阻隔 外部
【说明书】:

一种应用于压接型MOSFET的栅极结构,包括第一铜块,压接型MOSFET,栅极连接件,接收外部栅极控制信号的连接接口,第二铜块,与所述压接型MOSFET栅极接触的棒状金属,用于所述棒状金属与所述栅极连接件连接的弹性结构,所述栅极连接件与所述第二铜块之间的绝缘介质。使用对MOSFET散热路径无阻隔作用的上述栅极结构,能够提升散热能力,同时简化压装结构。

技术领域

实用新型涉及一种MOSFET的栅极结构,特别涉及一种应用于压接型MOSFET或压接型MOSFET阵列的栅极结构,属于电气工程技术领域。

背景技术

金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称金氧半场效晶体管 (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)是一种可以广泛使用的场效应晶体管,其既可以应用于诸如微处理器、微控制器等数位信号处理的场合上,也有越来越多模拟信号处理的集成电路用MOSFET来实现。

传统的MOSFET为横向通流结构,通常将其栅极、漏极、源极焊接在电路板上,器件工作时产生的热量主要通过电路板耗散,受封装类型的影响,散热能力较差,限制了其通流容量。压接型MOSFET,如图1a和图1b所示,为纵向通流结构,漏极为顶部金属外壳,使用期间,可将底部源极和栅极分别与电路板焊接,左右两侧漏极与电路板焊接,顶部漏极与金属连接结构压接,以增大散热能力。

在一些应用中,涉及到直接使用压接型MOSFET裸片进行压接,无封装结构,如图2所示。

在大功率应用中,通常会使用大量MOSFET并联形成阵列,实现大电流导通和关断的功能。例如,集成门极换流晶闸管(IGCT)的门极驱动电路的关断模块,如图3a所示,使用大量并联MOSFET阵列 QG和预充电的并联电容组Coff串联,在IGCT关断期间,通过触发MOSFET 阵列QG开通,使IGCT的阴极电流换流至门极,从而使IGCT关断。再如,基于GCT或GTO元件的发射极关断晶闸管(ETO)的驱动电路中,如图3b所示,使用两组并联MOSFET阵列QG和QE。ETO导通期间QG关断,QE导通;ETO关断时QE关断,QG导通,电流从GCT或GTO元件的阴极换流至门极,从而使其关断。

对于上述应用,为提高关断器件电流从阴极换流至门极的换流速度,应尽量降低回路的杂散电感,为此,应将MOSFET集成在器件管壳封装内。现有的压装结构中,一般将压接型MOSFET焊接在多层电路板上,再通过多层电路板将MOSFET的栅极控制信号从外部传导至 MSOFET栅极。但引入多层电路板,将对MOSFET向外界传递热量的过程产生阻隔作用。

另外,由于在使用GCT或GTO时需要在其两侧压接钼片,并施加几十KN以上的压力,而单个压接型MOSFET仅能承受50-100N的压力,因此,若将压接型MOSFET集成于管壳内,存在不同组件的压力差异和配合问题。

实用新型内容

为了克服上述现有技术存在的缺陷,本实用新型提出一种应用于压接型MOSFET的栅极结构,使用对MOSFET散热路径无阻隔作用的栅极结构,从而提升散热能力。

技术方案如下:

一种应用于压接型MOSFET的栅极结构,其特征在于:包括第一铜块,压接型MOSFET,栅极连接件,接收外部栅极控制信号的连接接口,第二铜块,弹性结构,与所述压接型MOSFET栅极接触的棒状金属,所述栅极连接件与所述第二铜块之间的绝缘介质;

其中,所述压接型MOSFET的源极与所述第二铜块的凸起部分连接;

所述栅极连接件置于所述第二铜块的凹槽内,并通过所述绝缘介质与所述第二铜块电气绝缘;

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