[实用新型]应用于压接型MOSFET的栅极结构有效
| 申请号: | 201821186545.6 | 申请日: | 2018-07-25 |
| 公开(公告)号: | CN208690252U | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
| 发明(设计)人: | 陈政宇;曾嵘;赵彪;余占清;刘佳鹏;周文鹏 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | H01L25/07 | 分类号: | H01L25/07;H01L23/48 |
| 代理公司: | 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11594 | 代理人: | 王冲;吴鑫 |
| 地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 压接 栅极结构 栅极连接 铜块 棒状金属 栅极控制信号 弹性结构 绝缘介质 连接接口 散热路径 散热能力 压装结构 栅极接触 应用 阻隔 外部 | ||
1.一种应用于压接型MOSFET的栅极结构,其特征在于:包括第一铜块,压接型MOSFET,栅极连接件,接收外部栅极控制信号的连接接口,第二铜块,弹性结构,与所述压接型MOSFET栅极接触的棒状金属,所述栅极连接件与所述第二铜块之间的绝缘介质;
其中,所述压接型MOSFET的源极与所述第二铜块的凸起部分连接;
所述栅极连接件置于所述第二铜块的凹槽内,并通过所述绝缘介质与所述第二铜块电气绝缘和固定;
所述栅极连接件与所述压接型MOSFET的栅极通过所述弹性结构和所述棒状金属连接;
所述栅极连接件与所述连接接口相连,所述连接接口接收外部栅极控制信号。
2.如权利要求1所述的栅极结构,其特征在于:其中,所述第一铜块包括一个或多个,每个所述第一铜块与所述压接型MOSFET的漏极等电位,所述第二铜块包括一个或多个,每个所述第二铜块与所述压接型MOSFET的源极等电位;其中,所述第一铜块与所述第二铜块之间具有一定的压力。
3.如权利要求1所述的栅极结构,其特征在于:其中,所述压接型MOSFET包括多个,并形成压接型MOSFET阵列;所述栅极连接件的形状根据所述压接型MOSFET阵列的排布方式相应设置。
4.如权利要求3所述的栅极结构,其特征在于:所述压接型MOSFET阵列采用环形或矩阵形;当阵列中所有压接型MOSFET使用同一栅极信号进行控制时,则采用一个所述栅极连接件电气连接所有压接型MOSFET;当使用不同栅极信号控制阵列中的压接型MOSFET时,则采用不同的栅极连接件电气连接相应压接型MOSFET。
5.如权利要求1所述的栅极结构,其特征在于:所述栅极连接件与所述压接型MOSFET的栅极通过所述弹性结构和所述棒状金属连接。
6.一种应用于压接型MOSFET的栅极结构,其特征在于:包括第一铜块,压接型MOSFET裸片,栅极连接件,接收外部栅极控制信号的连接接口,第二铜块,弹性结构,与所述压接型MOSFET裸片栅极接触的棒状金属;
其中,所述第一铜块与所述压接型MOSFET裸片的漏极相连,所述第二铜块与所述压接型MOSFET裸片的源极相连;
所述栅极连接件置于所述第二铜块的凹槽内;
所述栅极连接件与所述压接型MOSFET裸片的栅极通过所述弹性结构和所述棒状金属连接;
所述栅极连接件与所述连接接口相连,所述连接接口接收外部栅极控制信号。
7.如权利要求6所述的栅极结构,其特征在于:其中,所述第一铜块包括一个或多个,每个所述第一铜块与所述压接型MOSFET裸片的漏极等电位,所述第二铜块包括一个或多个,每个所述第二铜块与所述压接型MOSFET裸片的源极等电位;其中,所述第一铜块与所述第二铜块之间具有一定的压力。
8.如权利要求6所述的栅极结构,其特征在于:其中,所述压接型MOSFET裸片包括多个,并形成压接型MOSFET裸片阵列;所述栅极连接件的形状根据所述压接型MOSFET裸片阵列的排布方式相应设置。
9.如权利要求8所述的栅极结构,其特征在于:所述压接型MOSFET裸片阵列采用环形或矩阵形;当阵列中所有压接型MOSFET裸片使用同一栅极信号进行控制时,则采用一个所述栅极连接件电气连接所有压接型MOSFET裸片;当使用不同栅极信号控制阵列中的压接型MOSFET裸片时,则采用不同的栅极连接件电气连接相应压接型MOSFET裸片。
10.如权利要求6所述的栅极结构,其特征在于:所述栅极连接件与所述压接型MOSFET裸片的栅极通过所述弹性结构和所述棒状金属连接。
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