[实用新型]一种PVDF膜的检测系统

说明书

本实用新型提供了一种PVDF膜检测系统，包括配置于PVDF膜产线上的光源组件，包括至少一个光源，用于照射待检测PVDF膜；相机组件，包括至少一个相机，用于拍摄待检测PVDF膜；打标组件，用于标识待检测PVDF膜上的缺陷部位；计米器组件，用于检测待检测PVDF膜的输送距离；以及计算机，所述计算机分别连接所述光源组件、相机组件、打标组件和计米器组件，用于基于所述计米器组件检测的PVDF膜的输送距离以及实际产线速度对相机进行触发拍摄待检测PVDF膜，还用于接收处理相机拍摄的图片并识别缺陷，以及控制所述打标组件在待检测PVDF膜上的缺陷部位喷码打标。本实用新型的检测系统，适用于PVDF膜的质量检测，提高生产效率，降低生产成本。

技术领域

本实用新型涉及平面材料表面缺陷检测技术领域，具体涉及一种PVDF膜的检测系统。

背景技术

平面片材在生产过程中由于原料溶解的不充分、浆料给料不均匀、滚轴表面不光滑等诸多技术因素，表面会出现颗粒点、裂纹、划痕、孔洞、气泡、结晶、表皮分层、色斑、麻点等缺陷，这些缺陷会降低产品的质量，也增加了质量检测的难度。

PVDF膜即聚偏二氟乙烯膜，是蛋白质印迹法中常用的一种固相支持物。可分为：水处理用PVDF膜，包括超滤膜和微滤膜两种，主要用于污水、海水淡化等的前处理，清除大分子、细菌、泥沙等杂质；户外建筑用PVDF膜，主要用于户外建筑的玻璃、外墙、户外广告牌等的保护，主要是耐老化和耐磨功能；电池用PVDF膜，包括在燃料电池和锂离子聚合物电池中的隔膜应用。PVDF膜具有机械强度与坚韧度高、防霉菌性、高耐磨性等优点。

PVDF膜在生产过程中也会出现不同的缺陷，比如黑点、串点、拖尾、明显褶皱等缺陷。这些缺陷严重影响了PVDF膜的质量，所以目前PVDF膜的质量检测越来越受到相关厂家的关注。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种PVDF膜的检测系统，便于提高PVDF膜的质量检测，提高生产效率，降低生产成本。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种PVDF膜检测系统，包括配置于PVDF膜产线上的：

光源组件，包括至少一个光源，用于照射待检测PVDF膜；

相机组件，包括至少一个相机，用于拍摄待检测PVDF膜；

打标组件，用于标识待检测PVDF膜上的缺陷部位；

计米器组件，用于检测待检测PVDF膜的输送距离；

以及计算机，所述计算机分别连接所述光源组件、相机组件、打标组件和计米器组件，用于基于所述计米器组件检测的PVDF膜的输送距离以及实际产线速度对相机进行触发拍摄待检测PVDF膜，还用于接收处理相机拍摄的图片并识别缺陷，以及控制所述打标组件在待检测PVDF膜上的缺陷部位喷码打标。

进一步的，所述光源为匀光线光源，沿膜宽度方向设于待检测PVDF膜下方，且出射光线垂直于待检测PVDF膜，所述相机设于待检测PVDF膜上方，相机镜头指向光源出射光线与待检测PVDF膜的交汇处，且镜头轴线与待检测PVDF膜所在平面的夹角为63～67°。

进一步的，所述相机组件包括两个相机，所述两个相机沿膜宽度方向并排设置，且两个相机之间的距离为膜宽度的50%；两个相机的拍摄区域在膜宽度方向覆盖待检测PVDF膜，并于膜中间区域存在宽度为膜宽的3%~4%的重叠区域。

优选的，所述光源离待检测PVDF膜下表面的距离为93～97mm。

优选的，所述相机镜头到光源出射光线与待检测PVDF膜的交汇处的距离为723～743mm。