[实用新型]一种PVDF膜的检测系统

权利要求书

1.一种PVDF膜检测系统，其特征在于，包括配置于PVDF膜产线上的：

光源组件，包括至少一个光源，用于照射待检测PVDF膜；所述光源为匀光线光源，沿膜宽度方向设于待检测PVDF膜下方，且出射光线垂直于待检测PVDF膜；

相机组件，设于待检测PVDF膜上方，用于拍摄待检测PVDF膜；所述相机组件包括两个相机，所述两个相机沿膜宽度方向并排设置，相机镜头指向光源出射光线与待检测PVDF膜的交汇处，镜头轴线与待检测PVDF膜所在平面的夹角为63～67°，且两个相机之间的距离为膜宽度的50％；两个相机的拍摄区域在膜宽度方向覆盖待检测PVDF膜，并于膜中间区域存在宽度为膜宽的3％～4％的重叠区域；

打标组件，用于标识待检测PVDF膜上的缺陷部位；所述打标组件包括喷码机和喷码机支架，所述喷码机通过喷码机支架固定于待检测PVDF膜上方，且喷头指向待检测PVDF膜；

计米器组件，用于检测待检测PVDF膜的输送距离；所述计米器组件包括固定座和安装于固定座上的编码器和滚轮，所述滚轮与PVDF膜生产线上的其中一个滚筒相切，所述固定座还包括扭簧机构，该扭簧机构用于调节所述滚轮与滚筒的接触力；所述编码器与滚轮同轴连接，用于将滚轮的旋转角度转换为相应的电信号并发送到计算机；

以及计算机，所述计算机分别连接所述光源组件、相机组件、打标组件和计米器组件。

2.如权利要求1所述的PVDF膜检测系统，其特征在于，所述光源离待检测PVDF膜下表面的距离为93～97mm。

3.如权利要求2所述的PVDF膜检测系统，其特征在于，所述相机镜头到光源出射光线与待检测PVDF膜的交汇处的距离为723～743mm。

4.如权利要求3所述的PVDF膜检测系统，其特征在于，所述相机组件包括型材支架，设于型材支架上的支撑杆，以及安装于支撑杆上的相机，所述型材支架具有一对相对设置的垂直轨道，所述支撑杆的两端可活动地安装于所述垂直轨道内；所述相机通过摆动调整座及旋转调整座安装于所述支撑杆上，所述摆动调整座和旋转调整座分别用于调整相机在前后和左右两个方向上的旋转角度。

5.如权利要求1所述的PVDF膜检测系统，其特征在于，所述光源组件包括光源和光源组件支架，所述光源通过高度调整座和角度调整座安装于所述光源组件支架上，所述高度调整座和角度调整座分别用于调整光源的高度和旋转角度。