[实用新型]一种钛旋转靶

说明书

本实用新型公开了一种钛旋转靶，包括第一铜辅助部、钛靶主体、第二铜辅助部，所述第一铜辅助部、钛靶主体、第二铜辅助部顺次连接形成管状结构，所述第一铜辅助部和第二铜辅助部为对称结构，所述第一铜辅助部为台阶状结构，包括第一直径段、第二直径段、第三直径段，所述第一直径段、第二直径段、第三直径段顺次连接为一体结构，所述第一直径段外侧设置有外螺纹，所述第三直径段外侧设置有外螺纹，所述钛靶主体采用高纯钛材料制成，所述钛靶主体为T字形结构，其两侧端部设置有内螺纹，所述钛靶主体两侧端部设置的内螺纹和第三直径段外侧设置的外螺纹配合连接，装配简单，使用方便，降低了成本。

技术领域

本实用新型属于靶材技术领域，具体涉及一种钛旋转靶。

背景技术

物理气相沉积PVD被广泛地应用在光学、电子、信息等高端产业中，例如：集成电路、液晶显示器、工业玻璃、照相机镜头、信息存储、船舶、化工等。PVD中使用的金属靶材组件则是集成电路、液晶显示器等制造过程中最重要的原材料之一。钛靶是一种比较典型的金属靶材，钛靶的抗腐蚀性能好，电磁屏蔽性能好。钛靶广泛应用在装饰和功能镀膜工业、平面显示工业、光数据存储工业、光通讯工业等行业,是一种具有高附加值的特种电子材料,国内外对优质高纯度的靶材需求越来越大,具有良好的市场前景。

目前，轧制更大尺寸的溅射靶材在设备及技术上均超出了绝大多数靶材生产厂商的能力。平面靶材在溅射过程中只沿磁场回路发生刻蚀，在靶材表面形成跑道，靶材利用率最多在30％，而且平面靶材需要频繁更换,难以进行连续生产；靶材与铜背板一般是通过钎焊的方式做绑定，绑定质量靶材与铜背板的绑定质量较差，影响后续镀膜工艺的稳定性、成膜的质量等。

实用新型内容

本实用新型解决了现有技术的不足，提供一种钛靶主体与铜辅助部通过螺纹配合连接的钛旋转靶，装配简单，使用方便。

本实用新型所采用的技术方案是：一种钛旋转靶，包括第一铜辅助部、钛靶主体、第二铜辅助部，所述第一铜辅助部、钛靶主体、第二铜辅助部顺次连接形成管状结构，所述第一铜辅助部和第二铜辅助部为对称结构，所述第一铜辅助部为台阶状结构，包括第一直径段、第二直径段、第三直径段，所述第一直径段、第二直径段、第三直径段顺次连接为一体结构，所述第一直径段的外径小于第二直径段的外径，所述第一直径段的内径大于第二直径段的内径，所述第一直径段外侧设置有外螺纹，所述第三直径段外径小于第二直径段外径，所述第三直径段内径等于第二直径段外径，所述第三直径段外侧设置有外螺纹，所述钛靶主体采用高纯钛材料制成，所述钛靶主体为T字形结构，其两端延伸的凸起环套设于第三直径段外，所述钛靶主体两侧端部设置有内螺纹，且所述钛靶主体两侧端部设置的内螺纹和第三直径段外侧设置的外螺纹配合连接。

优选的，所述第一铜辅助部外侧左端部设置有倒角，所述第二铜辅助部外侧右端部设置有倒角。

更优选的，所述钛靶主体长度为600mm。

相较于现有技术，本实用新型具有的有益效果：一种钛旋转靶，包括第一铜辅助部、钛靶主体、第二铜辅助部，所述第一铜辅助部包括第一直径段、第二直径段、第三直径段，所述第三直径段外侧设置有外螺纹，所述钛靶主体两侧端部设置有内螺纹，所述钛靶主体两侧端部设置的内螺纹和第三直径段外侧设置的外螺纹配合连接，钛靶主体与铜辅助部不用通过钎焊的方式绑定，装配方便，大大简化了工艺程序，提高了效率，而且钛靶使用后，拆除靶材废料铜辅助部，铜辅助部可以二次使用，降低了成本；通过第三直径段外侧设置的外螺纹和镀膜设备连接，简单方便，所述钛靶主体采用高纯钛材料制成，保证了金属薄膜材料的性能。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明。