[实用新型]一种Parylene卧式内循环真空沉积装置

说明书

本实用新型公开了一种Parylene卧式内循环真空沉积装置，涉及电镀技术领域，其特征在于，包括封闭滚桶，所述封闭滚桶中心穿过空心通轴，所述空心通轴在封闭滚桶内的部分设有至少4个气体出口。本实用新型突破了以往小孔径沉积笼的限制，气相活性单体直接由空心通轴向封闭滚桶内扩散，通过化学气相沉积的方式实现工件的Parylene膜涂覆，使得Parylene固体原料的利用率从30％提高的70％，大大的降低了成本，具有很好的市场推广空间。

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，尤其涉及一种Parylene卧式内循环真空沉积装置。

背景技术

Parylene采用一种独特的化学气相沉积(CVD)工艺，CVD工艺最早应用在半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。Parylene薄膜涂层制备过程一般分为三步：(1)真空状态和120度条件下将固态原料升华成气态；(2)650度气态原料裂解成具有反应特性的活性单体；(3)活性单体在室温下沉积并聚合。

气态活性单体进入沉积腔室，首先弥漫在工件表面，当吸附到各个表面后开始聚合和结晶，直接形成固体，避免了液相的出现，清除了厚度的不均匀和涂层中的缺陷。这种在室温条件下通过气相沉积的方式获得的薄膜涂层厚度只有0.1-100微米，且致密均匀无针孔、透明无应力、不损伤工件、有优异的防护性和电绝缘性，是当代最有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾的涂层材料，广泛用于航空航天、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域。

传统的Parylene膜沉积装置沉积时往往是气相活性单体由沉积笼外向沉积笼内扩散，从而实现对沉积笼内工件的涂覆。但是由外向内沉积，使得气相活性单体在外部空间做不必要的扩散沉积，造成大量的浪费，使得Parylene固体原料利用率只有30％。为提高沉积封闭滚桶的空间利用率，ZL201120447708.3的中国专利公开了《一种聚对二甲苯卧式沉积系统新工装结构》，其沉积封闭滚桶内设有圆柱形沉积架，沉积架上均匀设有沉积笼。该专利利用沉积笼将沉积封闭滚桶填满，虽然提高了沉积封闭滚桶的空间利用率，但是为了防止工件从沉积笼空隙漏出，沉积笼由冲孔网板加工组成，而冲孔网板孔径小，在对工件进行沉积镀膜时，很容易将网孔阻塞，一方面降低了沉积效率，增加了经济成本，另一方面需对沉积笼经常进行更换、脱膜，增加了时间成本。

实用新型内容

本实用新型提供了一种Parylene膜沉积均匀、沉积效率高、有效降低成本的一种Parylene卧式内循环真空沉积装置。本实用新型的技术方案如下：

一种Parylene卧式内循环真空沉积装置，其特征在于，包括封闭滚桶，所述封闭滚桶中心穿过空心通轴，所述空心通轴在封闭滚桶内的部分设有至少4个气体出口。

本实用新型的工作方法如下：

待镀膜的工件置于封闭滚桶内，经过裂解室裂解后的气相活性单体经由空心通轴的气体出口扩散至封闭滚桶，与此同时主动齿轮带动从动齿轮运转，从动齿轮带动封闭滚桶匀速转动，真空冷却环境下气相活性单体快速均匀的沉积在工件表面。

通过采用以上技术方案，本实用新型所能达到的有益效果为：

1、空心通轴位于封闭滚桶中心，裂解后的气相活性单体由空心通轴扩散充满整个封闭滚桶，齿轮带动封闭滚桶匀速转动，使工件360°均匀快速沉积Parylene膜，使涂覆完整均匀，且利用率高。

2、本实用新型突破了小孔径沉积笼的限制，气相活性单体由空心通轴的气体出口直接向外扩散至封闭滚桶，充满整个封闭滚桶的有效空间，不会造成不必要的浪费，使得Parylene固体原料的利用率大大提高，由原来的30％提升至70％，大大的降低了成本。

3、由于空心通轴上的气体出口表面积较大，不容易出现薄膜沉积导致气体出口堵塞的现象，一个空心通轴可以长期使用，减少了更换、清理的麻烦。