[实用新型]一种冷却站有效

专利信息
申请号: 201821040534.7 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN208478300U 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 薛荣华;阚保国;刘家桦;叶日铨 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 侦测元件 冷却腔 冷却物 本实用新型 预设位置 体内 冷却站 晶圆 侦测 机台 晶圆位置 冷却腔体 生产效率 支架设置 偏移 支架 破损
【说明书】:

实用新型提供了一种冷却站,包括:冷却腔体;用于放置待冷却物的支架,所述支架设置于所述冷却腔体内;以及用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件,所述侦测元件设置于所述冷却腔体内。本实用新型通过在冷却腔体内设置侦测元件,其用于侦测待冷却物是否在预设位置范围内,以减少晶圆位置偏移造成晶圆破损,并降低机台宕机率,提高晶圆生产效率。

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造领域,特别是涉及一种冷却站。

背景技术

随着科技的快速发展,高科技电子产品使用于日常生活已是相当普遍,例如手机、主板、数字相机等电子产品,该类电子产品内部皆装设并布满许多半导体器件,而半导体器件的材料来源就是晶圆,为了能够满足各式高科技电子产品的大量需求,故晶圆代工产业皆以如何更加快速且精确制造出晶圆为目标,不断地进行研发与改良突破。

在晶圆的加工过程中,晶圆从工作腔体中出来时温度一般在80℃至170℃之间,需要经过冷却站将温度冷却至一定范围(例如是≤50℃)才可以进行后续操作。而当冷却站整体发生倾斜未被及时纠正,以及,晶圆通过传送手臂放入冷却站或自冷区站取出时位置发生偏移,都会造成晶圆之间相互发生摩擦、碰撞或与冷却站的腔体内壁发生碰撞,从而造成晶圆破损,严重时甚至引起机台宕机,影响晶圆生产效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种冷却站,以减少因晶圆位置偏移造成晶圆破损,并降低机台宕机率,提高晶圆生产效率。

为了解决上述问题,本实用新型提出了一种冷却站,包括:冷却腔体;用于放置待冷却物的支架,所述支架设置于所述冷却腔体内;以及用于侦测所述待冷却物是否在预设位置范围内的侦测元件,所述侦测元件设置于所述冷却腔体内。

可选的,所述冷却腔体包括:相对设置的上内壁和下内壁;以及连接所述上内壁和下内壁多个侧内壁。

可选的,所述支架包括:多个凸起部分,所述多个凸起部分分别设置于所述冷却腔体的多个侧内壁上,所述多个凸起部分共同构成一承载面,所述承载面用于放置所述待冷却物。

可选的,所述侦测元件包括:多对光电传感器,每对光电传感器分别设置在所述冷却腔体的上内壁和下内壁,每对光电传感器的连线均垂直于所述承载面,待冷却物超出预设位置范围时至少一对光电传感器的信号被阻断。

可选的,所述待冷却物为晶圆,每三个凸起部分共同构成一承载面。

可选的,所述侦测元件包括至少为3对光电传感器。

可选的,所述冷却腔体为长方体结构。

可选的,所述冷却腔体设置有用于待冷却物出入的开口。

可选的,还包括:用于显示所述侦测元件状态的显示元件,所述显示元件设置于所述冷却腔体上。

可选的,所述冷却腔体的材质为不锈钢。

由于采用了以上技术方案,本实用新型具有以下有益效果:

本实用新型提供的一种冷却站,通过在冷却腔体内设置侦测元件,其用于侦测待冷却物(例如是晶圆)是否在预设位置范围内,以减少晶圆位置偏移造成晶圆破损,并降低机台宕机率,提高晶圆生产效率。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的冷却站的示意图;

图2为本实用新型一实施例的光电传感器的位置示意图。

附图标记说明:

100-冷却腔体;101-上内壁;102-下内壁;104-后侧内壁;105-左侧内壁;106-右侧内壁;

200-侦测元件;210-光电传感器;

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