[实用新型]一种MPCVD设备基板台冷却结构有效
申请号: | 201821029075.2 | 申请日: | 2018-07-01 |
公开(公告)号: | CN208949403U | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 黄翀;范杰 | 申请(专利权)人: | 长沙新材料产业研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
代理公司: | 武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙) 42235 | 代理人: | 李恭渝 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板台 喷头 冷却管 冷却液 支撑台 冷却 本实用新型 冷却结构 连接螺纹 设备基板 喷口 冷却液出口 均匀冷却 冷却效果 面积覆盖 需求调节 一端连接 一端设置 可调节 全覆盖 储存 | ||
1.一种MPCVD设备基板台冷却结构,包括基板台支撑台、设置有冷却液出口的冷却管,还包括设置于冷却液出口处的喷头,其特征在于所述喷头的一端连接冷却管,另一端设置有截面面积基本覆盖基板台支撑台底面面积的喷口,所述喷头与基板台支撑台之间还有缝隙,供冷却液流出。
2.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于还包括支撑台连接件、密封件、冷却液排出管接头,所述密封件用于基板台支撑台和支撑台连接件的密封,所述冷却液排出管接头设置于支撑台连接件的底部。
3.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头为漏斗型,所述喷口为漏斗的大端通口。
4.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头为漏斗型,在漏斗的大端口设置有喷口盖,所述喷口盖上设置有均匀分布的小通孔。
5.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头与基板台支撑台之间的缝隙宽度为2~15mm。
6.根据权利要求2所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头与冷却管之间活动连接,以便于调整喷口与基板台支撑台底面的距离。
7.根据权利要求6所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头与冷却管之间活动连接为螺纹连接,喷口与基板台支撑台底面的距离通过连接螺纹进行调节。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的