[实用新型]一种MPCVD设备基板台冷却结构有效

专利信息
申请号: 201821029075.2 申请日: 2018-07-01
公开(公告)号: CN208949403U 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 黄翀;范杰 申请(专利权)人: 长沙新材料产业研究院有限公司
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511
代理公司: 武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙) 42235 代理人: 李恭渝
地址: 410205 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基板台 喷头 冷却管 冷却液 支撑台 冷却 本实用新型 冷却结构 连接螺纹 设备基板 喷口 冷却液出口 均匀冷却 冷却效果 面积覆盖 需求调节 一端连接 一端设置 可调节 全覆盖 储存
【权利要求书】:

1.一种MPCVD设备基板台冷却结构,包括基板台支撑台、设置有冷却液出口的冷却管,还包括设置于冷却液出口处的喷头,其特征在于所述喷头的一端连接冷却管,另一端设置有截面面积基本覆盖基板台支撑台底面面积的喷口,所述喷头与基板台支撑台之间还有缝隙,供冷却液流出。

2.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于还包括支撑台连接件、密封件、冷却液排出管接头,所述密封件用于基板台支撑台和支撑台连接件的密封,所述冷却液排出管接头设置于支撑台连接件的底部。

3.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头为漏斗型,所述喷口为漏斗的大端通口。

4.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头为漏斗型,在漏斗的大端口设置有喷口盖,所述喷口盖上设置有均匀分布的小通孔。

5.根据权利要求1所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头与基板台支撑台之间的缝隙宽度为2~15mm。

6.根据权利要求2所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头与冷却管之间活动连接,以便于调整喷口与基板台支撑台底面的距离。

7.根据权利要求6所述的MPCVD设备基板台冷却结构,其特征在于所述喷头与冷却管之间活动连接为螺纹连接,喷口与基板台支撑台底面的距离通过连接螺纹进行调节。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长沙新材料产业研究院有限公司,未经长沙新材料产业研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821029075.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top