[实用新型]多膜层连续镀膜设备

说明书

本实用新型公开一种多膜层连续镀膜设备，包括依次连接的表面处理室、多膜层镀膜室和出片真空室，各真空室内均设有工件往复移动机构；工件往复移动机构设于基片架下方，基片架上方设有磁导向机构，工件往复移动机构中的主动驱动托轮和从动支承轮分别设于真空室内的安装支架上，相邻的两个主动驱动托轮之间分布有多个从动支承轮，在主动驱动托轮的带动下，基片架沿从动支承轮和磁导向机构进行往复移动。其方法是工件往复移动机构带动基片架及工件在表面处理室内往复移动进行多次表面粗化和清洁处理；然后在多膜层镀膜室内往复移动，实现多膜层镀膜；最后从出片真空室将工件送出。本实用新型可有效简化设备结构，提高镀膜效率和膜层均匀度。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，特别涉及一种多膜层连续镀膜设备。

背景技术

现有的真空镀膜设备中，无论是直线式的镀膜设备还是卷绕式的镀膜设备中，对于工件或基材的镀膜方式均采用一次连续通过的方式进行镀膜，该情况下，镀膜设备中一般需要设置连续相接的多个真空镀膜室或多个镀膜单元、以及多个靶材以进行多次镀膜，才能使膜层厚度达到所需厚度。在实际生产中，该方式的设备结构庞大复杂，设备成本高，同时，由于不同镀膜室内的真空度难以达到高度一致，因此即使工件或基材连续通过经过多次镀膜，其表面膜层的均匀度也难以得到保障。另外，工件一般是采用摩擦滚轮的结构进行传送，该方式在设备高速运行时，容易产生打滑现象，影响工件的正常输送，也影响工件表面镀膜质量。

此外，现有的真空镀膜设备中，靶门一般采用侧开式结构，但针对于大型设备来说，该开启方式操作非常不方便，对于靶材来说，其更换或维护成本也就相当高。而为了方便安装，一般采用直径较小(一般小于150mm)靶管，其溅射面积小，镀膜效率也第，难以实现快速镀膜作业。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种镀膜效率高、膜层均匀度高且设备结构较为简单的多膜层连续镀膜设备。

本实用新型的技术方案为：一种多膜层连续镀膜设备，包括依次连接的表面处理室、多膜层镀膜室和出片真空室，表面处理室、多膜层镀膜室和出片真空室内均设有工件往复移动机构；工件往复移动机构设于基片架的下方，基片架的上方设有磁导向机构，工件往复移动机构包括主动驱动托轮和从动支承轮，主动驱动托轮和从动支承轮分别设于真空室(该真空室为表面处理室、多膜层镀膜室或出片真空室)内的安装支架上，相邻的两个主动驱动托轮之间分布有多个从动支承轮，在主动驱动托轮的带动下，基片架沿从动支承轮和磁导向机构进行往复移动。多膜层镀膜室中，放置于基片架上的工件在工件往复移动机构的带动下，在磁控靶(即下述旋转靶)前面进行多次往复移动，由于在同一真空室内进行，可有效避免现有设备一次经过磁控靶进行镀膜所造成前后膜层不一致(即色差)的问题，从而提高工件表面前后膜层的均匀性。另外，工件在磁控靶前面来回快速移动，可减少工件表面的发热量，实现低温镀膜，使一些耐温不高的工件也能实现多层膜及较厚膜层的镀膜(因为镀膜层越厚其发热量就越大)。其中，表面处理室在工件镀膜前，将工件表面进行粗化及清洁处理，提高了镀膜层的附着力，提高了膜层的质量，另一方面离子表面处理过程是一种有效的除气过程，可将镀膜的基片表面的气体彻底除去，从而在镀膜时可实现高纯度的镀膜膜层。

所述基片架的下部设有支撑方钢，支撑方钢朝向工件往复移动机构的一侧设有导向槽，导向槽内设有齿条和压缩弹簧，工件往复移动机构中的主动驱动托轮上设有齿轮，齿条的底面与齿轮相配合，齿条的顶面通过压缩弹簧与支撑方钢相接；支撑方钢的侧面设有长孔，齿条的侧面设有定位销，定位销活动于长孔内。其中，齿条在基片架的导向槽上可上下活动，并通过设置定位销和长孔相配合来限制齿条的运行位置及定位。通过齿轮驱动基片架上的齿条，使基片架向前移动，由于齿轮齿条的作用可使工件架移动速度均匀、平稳，减少了现有设备中所采用的摩擦轮结构，避免在高速往复运动时所产生的打滑现象。这样可大大提高了镀膜过程的稳定性、可靠性及膜层的均匀性。压缩弹簧使齿条可以浮动，这样当不同主动驱动轮上的齿轮产生不同步现象时，可通过齿条的浮动来减少基片架在移动过程中产生的抖动现象。