[实用新型]一种用于织物的磁控溅射镀膜系统

权利要求书

1.一种用于织物的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，包括依次相连的放卷室、烘干室、镀膜装置和收卷室，所述放卷室、烘干室、镀膜装置和收卷室均与抽真空设备相连，所述放卷室、烘干室、镀膜装置和收卷室中均设有多个用于运送织物的导辊，所述导辊与驱动设备相连，所述织物在所述导辊的驱动下沿相同的方向转动，以将所述织物由所述放卷室运送至所述收卷室中；

所述镀膜装置包括多个串联的镀膜室，相邻的所述磁控溅射镀膜室之间设有真空隔离室；所述镀膜室的壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，内部设有镀膜辊，所述镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个所述溅射源与所述镀膜辊之间形成镀膜间隙；

所述烘干室内部设有加热装置和若干导辊，其中，所述加热装置设置在烘干室相对的两内壁上，所述烘干室上设有缝隙，织物从其中一个缝隙进入烘干室，从另一缝隙穿出所述烘干室。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，多个所述导辊中至少包括一个主动辊，所述主动辊和所述镀膜辊与所述驱动设备相连。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，所述镀膜室下方设有可向外拉出的凹字形移动靶车，所述靶车底面设有车轮，可抽出或推回，多个所述溅射源固定在所述靶车内凹处；

所述靶车内凹处为与镀膜辊外表面相适应的圆弧形。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，所述溅射源沿所述靶车内凹处等间距设置。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，多个所述溅射源中的靶材相同或不同。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，还设有连接所述镀膜辊和多个所述溅射源的冷却系统。

7.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，所述加热装置为红外加热装置，所述红外加热装置为红外辐射灯。

8.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜系统，其特征在于，所述真空隔离室表面设有观察窗口，所述真空隔离室还连接有监测系统，所述监测系统包括设置在所述真空隔离室内的传感器，所述传感器与外部处理器通讯连接。