[实用新型]一种倒装LED芯片有效

专利信息
申请号: 201820940983.0 申请日: 2018-06-15
公开(公告)号: CN208400865U 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 王兵 申请(专利权)人: 佛山市国星半导体技术有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/48;H01L33/60;H01L33/62
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 胡枫
地址: 528200 广东省佛山市南海区狮*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 倒装LED芯片 透明导电层 切割道 衬底 本实用新型 半导体层 外延层 绝缘层 衬底表面 第二电极 第一电极 电流传导 裸露区域 芯片边缘 反射层 刻蚀线 延伸 线宽 发光 贯穿
【说明书】:

本实用新型公开了一种倒装LED芯片,包括:衬底、设于衬底上的外延层、裸露区域、设于第二半导体层上的透明导电层、切割道、绝缘层、反射层、第一电极和第二电极,其中,所述切割道贯穿透明导电层和外延层并延伸至衬底的表面。本实用新型的切割道直接延伸至衬底表面,在芯片边缘不再存在台阶刻蚀线宽和透明导电层线宽,使倒装LED芯片的发光面积达到最大,增加了第二半导体层与透明导电层的接触面积,从而增加电流传导面积,进而提升了倒装LED芯片的亮度并降低了的电压。

技术领域

本实用新型涉及发光二极管技术领域,尤其涉及一种倒装LED芯片。

背景技术

LED(Light Emitting Diode,发光二极管)是一种利用载流子复合时释放能量形成发光的半导体器件,倒装LED芯片具有耗电低、色度纯、寿命长、体积小、响应时间快、节能环保等诸多优势。

现有的倒装LED芯片一般包衬底、N型氮化镓层、有源层、P型氮化镓层、透明导电层和电极,在制作倒装LED芯片时,需要对LED晶园进行切割,从而形成单颗倒装LED芯片。具体的,LED晶园在切割前,需要对透明导电层、P型氮化镓层和有源层进行刻蚀,形成切割道,这样才能沿着切割道对LED晶园进行切割。如图1所示,现有的切割道包括第一切割道41和第二切割道42,第一切割道41贯穿透明导电层24并延伸至P型氮化镓层23的表面,第二切割道42贯穿透明导电层24、P型氮化镓层23和有源层23并延伸至N型氮化镓层21的表面。现有的倒装LED芯片通过第一切割道将透明导电层和P型氮化镓层的边缘留有空隙,通过第二切割道将有源层和N型氮化镓层的边缘留有空隙,从而防止芯片发生漏电。由于LED晶圆在切割成单颗倒装LED芯片时,容易将上一层结构的边缘粘连到下一层结构的边缘,因此导致芯片漏电。

但是,现有的切割道需要对LED晶圆进行两次刻蚀,工艺复杂;此外,会减少芯片和透明导电层的面积,影响倒装LED芯片的电流分布和减少发光面积。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种倒装LED芯片,切割道贯穿透明导电层和外延层并延伸至衬底,增加有源层的面积,增加第二半导体层与透明导电层的接触面积,从而增加电流传导面积,进而提升了倒装LED芯片的亮度并降低了的电压。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种倒装LED芯片,包括:

衬底;

设于衬底上的外延层,所述外延层包括依次设于衬底上的第一半导体层、有源层和第二半导体层;

裸露区域,所述裸露区域贯穿第二半导体层和有源层并延伸至第一半导体层;

设于第二半导体层上的透明导电层;

切割道,所述切割道贯穿透明导电层和外延层并延伸至衬底的表面;

设于透明导电层上和切割道上的绝缘层;

设于绝缘层上的反射层;

第一电极和第二电极,所述第一电极位于裸露区域,并设于第一半导体层上,所述第二电极贯穿绝缘层和反射层并设于透明导电层上。

作为上述方案的改进,所述切割道位于倒装LED芯片的边缘。

作为上述方案的改进,所述切割道的宽度不大于30微米。

作为上述方案的改进,还包括第一焊盘和第二焊盘,第一焊盘设于第一电极上,第二焊盘设于第二电极上。

作为上述方案的改进,所述绝缘层由绝缘材料制成。

作为上述方案的改进,所述反射层由反射金属制成。

实施本实用新型,具有如下有益效果:

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