[实用新型]磁瓦磨削调整机构

权利要求书

1.磁瓦磨削调整机构，包括磁瓦轴高磨削机，其特征在于，所述磁瓦轴高磨削机末端设置有用于将磁瓦由纵向转化为横向的第一调整组件，磁瓦轴高磨削机后端设置有将磁瓦由横向转化为纵向的第二调整组件。

2.根据权利要求1所述的磁瓦磨削调整机构，其特征在于，所述第一调整组件包括第一支架，第一支架上设置有第一传送带，第一传送带的上表面水平设置，且与磁瓦轴高磨削机的第二传送带上表面齐平，第一支架上设置有第一倒瓦过渡板，第一倒瓦过渡板位于第一传送带和第二传送带之间，第一倒瓦过渡板的两端分别与第一传送带和第二传送带靠近但不接触，第一倒瓦过渡板的上表面第一传送带上表面齐平；

所述第一支架上沿第一传送带长度方向固定设置有两个第一挡板，两个第一挡板位于第一传送带的两侧，两个第一挡板之间的间距为(L+8)mm，L为磁瓦宽度；两个第一挡板与第一传送带的上表面构成第一U形槽；

所述磁瓦轴高磨削机上沿第二传送带长度方向固定设置有两个第二挡板，两个第二挡板位于第二传送带的两侧，两个第二挡板与第二传送带的上表面构成第二U形槽；左侧的第二挡板呈阶梯状，左侧的第二挡板的内侧表面包括平行设置的第一平面和第二平面，左侧第一挡板和左侧第二挡板固定连接，第一平面与左侧第一挡板的内表面共面，左侧的第二挡板第一平面上设置有第一挡块，第一挡块的外侧表面为第一圆弧面和第三平面；第三平面与第一平面的间距为(L1/2-3)mm，第三平面与第二平面平行，第一圆弧面位于靠近第一传送带一侧；

所述第一平面与右侧第二挡板内侧表面的间距大于第二平面与右侧第二挡板内侧表面间距，第二平面与右侧第二挡板内侧表面的之间的间距为(H+1)mm，H为磁瓦高度。

3.根据权利要求1或2所述的磁瓦磨削调整机构，其特征在于，所述第二调整组件包括第二支架，第二支架上设置有第三传送带，第三传送带的上表面水平设置，且与磁瓦轴高磨削机的第二传送带上表面齐平，第二支架上设置有第二过渡板，第二过渡板位于第三传送带和第二传送带之间，第二过渡板的两端分别与第三传送带和第二传送带靠近但不接触，第二过渡板的上表面第三传送带上表面齐平；

所述第二支架上沿第三传送带长度方向固定设置有两个第五挡板，两个第五挡板位于第三传送带的两侧，两个第五挡板与第三传送带的上表面构成第三U形槽；

所述左侧的第五挡板的呈阶梯状，左侧的第五挡板的内侧表面包括平行设置的第四平面和第五平面，左侧第五挡板和左侧第二挡板固定连接，第四工作面与左侧第二挡板的第二平面共面，左侧的第五挡板第四平面上设置有第二挡块，第二挡块的外侧表面为第二圆弧面和第六平面；第六平面与第四平面的间距为(H1/2-3)mm，第六平面与第五平面平行，第二圆弧面靠近第二传送带一侧；

所述第四平面与右侧第二挡板内侧表面的间距大于第五平面与右侧第二挡板内侧表面间距，第五平面与右侧第五挡板的内表面的间距为(L+2)mm，L为磁瓦宽度。

4.根据权利要求3所述的磁瓦磨削调整机构，其特征在于，所述第一调整组件还包括第一限定机构和第二限定机构；

所述第一限定机构包括第一固定架、第一激光传感器和第一遮挡板；第一固定架固定设置在第一支架上，且位于第一传送带一侧，第一激光传感器固定设置在第一固定架上，第一遮挡板转动设置在第一固定架上，且转动连接点位于第一遮挡板的中部，第一遮挡板位于第一U形槽中，第一遮挡板转动后能够遮挡住第一激光传感器的探头；

所述第二限定机构包括第二固定架、第二激光传感器和第二遮挡板；第二固定架固定设置在磁瓦轴高磨削机上，且位于第二传送带一侧，第二激光传感器固定设置在第二固定架上，第二遮挡板转动设置在第二固定架上，且转动连接点位于第二遮挡板的中部，第二遮挡板位于第二U形槽中，第二遮挡板转动后能够遮挡住第二激光传感器的探头。

5.根据权利要求4所述的磁瓦磨削调整机构，其特征在于，所述第二调整组件还包括第三限定机构；

所述第三限定机构包括第三固定架、第三激光传感器和第三遮挡板；第三固定架固定设置在第二支架上，且位于第三传送带一侧，第三激光传感器固定设置在第三固定架上，第三遮挡板转动设置在第三固定架上，且转动连接点位于第三遮挡板的中部，第三遮挡板位于第三U形槽中，第三遮挡板转动后能够遮挡住第三激光传感器的探头。