[实用新型]一种组合式磁控溅射靶材

说明书

本实用新型公开了一种组合式磁控溅射靶材，包括基板、靶材板和外固套，所述基板的下方固定有电磁板，且电磁板的内部设置有线圈，所述基板的上方安装有支座，所述靶材板的外侧壁设置有侧滑槽，且靶材板位于支座的上方，所述靶材板的中间贯穿有连接螺杆，且连接螺杆的外侧安装有紧固螺母，所述靶材板的上表面分别设置有第一环轨和活动凹槽，且活动凹槽位于第一环轨的内侧，所述第一环轨的上表面设置有单元面板，所述外固套的内表面分别设置有活动槽和环槽，且外固套位于嵌块靠外的一侧。该组合式磁控溅射靶材具有较高的组合集成结构，结构可变形，能够提供多种靶材基材，并进行多种情况下的磁控溅射过程，自身能够产生环形磁场。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域，具体为一种组合式磁控溅射靶材。

背景技术

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等，亦可应用于玻璃镀膜领域，还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业，根据成分可以分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材等，溅射靶材采用磁控溅射原理使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。现代的溅射靶材自身结构上尚存在可以进行改进的地方，比如溅射靶材的综合效果比较低下，一种靶材只能用于一种环境，靶材的组合性能及结构可变性较差，磁控溅射过程中需要对靶材施加一个正交磁场和电场，靶材自身是不能够自发形成磁场的，为此，我们提出一种组合式、结构可变形且自带环形磁场的磁控溅射靶材。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种组合式磁控溅射靶材，以解决上述背景技术中提出的溅射靶材的综合效果比较低下，一种靶材只能用于一种环境，靶材的组合性能及结构可变性较差，磁控溅射过程中需要对靶材施加一个正交磁场和电场，靶材自身是不能够自发形成磁场的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种组合式磁控溅射靶材，包括基板、靶材板和外固套，所述基板的下方固定有电磁板，且电磁板的内部设置有线圈，所述基板的上方安装有支座，所述靶材板的外侧壁设置有侧滑槽，且靶材板位于支座的上方，所述靶材板的中间贯穿有连接螺杆，且连接螺杆的外侧安装有紧固螺母，所述靶材板的上表面分别设置有第一环轨和活动凹槽，且活动凹槽位于第一环轨的内侧，所述第一环轨的上表面设置有单元面板，且活动凹槽的表面固定有第二环轨，所述第二环轨的上表面设置有活动面板，所述靶材板的左右两侧均安装有嵌块，所述外固套的内表面分别设置有活动槽和环槽，且外固套位于嵌块靠外的一侧，所述活动槽和环槽之间为垂直交错设置，且外固套的外侧壁固定有卡扣。

优选的，所述线圈呈盘旋状设置在电磁板的内部，且电磁板的竖直中心线与线圈的中轴线重合。

优选的，所述靶材板共平行设置有4个，且靶材板两两之间通过连接螺杆螺纹连接。

优选的，所述第一环轨的外侧面与单元面板的内侧面之间紧密贴合，且单元面板关于靶材板的中心呈环状均匀分布，并且相邻单元面板之间面积不等。

优选的，所述活动面板通过第二环轨与靶材板构成可滑动结构，且活动面板共设置有两个，并且两个活动面板之间面积相等。

优选的，所述嵌块分别与活动槽和环槽之间尺寸相吻合，且活动槽和环槽在外固套的内表面呈栅栏状分布。