[实用新型]基板移送装置有效
申请号: | 201820856568.7 | 申请日: | 2018-06-05 |
公开(公告)号: | CN208767258U | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 李载鸿 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健;张国香 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板移送装置 基板 移送单元 本实用新型 基板处理 基板污染 颗粒附着 支撑基板 盖子 腔室 遮盖 引入 | ||
1.一种基板移送装置,其包括:
移送单元,其用于支撑基板并向基板处理用腔室引入基板或将基板引出;
盖子,其对所述移送单元的上部进行遮盖;
所述盖子设置有净化用流体喷射部,净化用流体喷射部向所述基板和所述盖子之间的空间喷射净化用流体。
2.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子设置为垂直地挡住所述基板的水平方向周围的至少一个方向。
3.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子设置为固定于所述移送单元。
4.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,还包括:
机械手主体,其设置有驱动部,驱动部提供使得所述移送单元进行移送的动力;
机械手臂,其一侧紧固连接于所述机械手主体,在另一侧末端设置有所述移送单元。
5.根据权利要求4所述的基板移送装置,其特征在于,
所述机械手臂以收缩及伸长的形式形成,
在所述机械手臂收缩的状态下,所述移送单元通过所述驱动部的驱动向所述腔室的基板出入口外侧移动,并随着所述机械手臂伸长而通过所述基板出入口被引入至所述腔室的内部。
6.根据权利要求4所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子设置为固定于所述机械手主体。
7.根据权利要求6所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子设置为,在所述机械手臂向所述机械手主体方向收缩的状态下对所述移送单元的上部进行遮盖。
8.根据权利要求7所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子设置为延长至与所述腔室的基板出入口相邻近的位置。
9.根据权利要求4所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子设置为,在所述机械手臂和所述移送单元旋转时一起旋转并对所述移送单元的上部进行遮盖。
10.根据权利要求4所述的基板移送装置,其特征在于,
所述机械手主体设置有净化用流体喷射部,净化用流体喷射部向所述基板和所述盖子之间的空间喷射净化用流体。
11.根据权利要求6所述的基板移送装置,其特征在于,
还设置有固定于所述移送单元的所述盖子。
12.根据权利要求1或10所述的基板移送装置,其特征在于,
所述盖子的边缘设置为向下侧弯曲,从所述净化用流体喷射部供给的流体以围绕所述基板的周围并进行流动的形式形成。
13.根据权利要求1或10所述的基板移送装置,其特征在于,
从所述净化用流体喷射部供给的流体是非活性气体。
14.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,
从所述净化用流体喷射部供给的流体是氮气。
15.根据权利要求1或10所述的基板移送装置,其特征在于,
从所述净化用流体喷射部供给的流体是洁净空气。
16.根据权利要求1或10所述的基板移送装置,其特征在于,
所述净化用流体喷射部形成于所述基板的上侧。
17.根据权利要求1或10所述的基板移送装置,其特征在于,
所述净化用流体喷射部形成于所述基板的水平方向周围的一侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造